[发明专利]一种缬沙坦的制备方法有效
申请号: | 201310557907.3 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN103613558A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 杨和军;李洪武;郭拥政;蒋栋;肖俊;许永平;杨玲玲;叶鑫杰;朱汇锋 | 申请(专利权)人: | 浙江新赛科药业有限公司 |
主分类号: | C07D257/04 | 分类号: | C07D257/04 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 312369 浙江省绍*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 缬沙坦 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及药物技术领域,具体涉及一种控制缬沙坦杂质K的缬沙坦的制备方法。
背景技术
缬沙坦(化学名为:N-(1-戊酰基)-N-[4-[2-(1H-四氮唑-5-基)苯基]苄基]-L-缬氨酸)可用于各种类型高血压,并对心脑肾有较好的保护作用。心肌梗塞、心力衰竭、蛋白尿、糖尿病等高血压病人可做为常规使用,可与利尿剂(如氢氯噻嗪)联合使用。缬沙坦的结构式如下:
关于缬沙坦的文献相当丰富,尤其集中在合成路线上,例如关于缬沙坦合成路线的专利申请有US5399578、US7199144、WO2006067216、WO2008007391、WO2004026847、CN00115355等。
在缬沙坦的杂质控制方面,申请号为200810223659.8(公开号为CN101367772A)中国专利申请公开了一种缬沙坦杂质的控制方法,对有关物质做出了如下的限定:VLSI-A不超过1.0%;VLSI-B和VLSI-D分别不得超过0.2%和0.1%,其它单个未知杂质不得超过0.1%,总杂质(不包括VLSI-A)不超过0.3%,符合美国药典的要求;申请号为200910085197.2(公开号为CN101560190A)中国专利申请对缬沙坦杂质E进行了研究,用异亮氨酸酯成盐物的含量不大于0.23%的缬氨酸酯成盐物为上述合成路线的起始原料,合成缬沙坦,其杂质VLSI-E的含量不超过0.1%。申请号为200910242972.0(公开号为CN 101735164A)中国专利申请公开了对缬沙坦杂质F进行了研究。
在缬沙坦复方制剂的研究中,对于缬沙坦原料药的质量提出了更高的要求,特别是对未知杂质。因此,非常有必要对缬沙坦原料药中的未知杂质进行研究,找到产生的原因和控制方法。
通过对缬沙坦精制方法的研究,发现RRT(相对保留时间)值0.6左右的杂质通过重结晶很难有效去除,通过液质联用分析,该杂质的分子量为[M+1]+=381。初步判断为缬沙坦脱戊酰基再亚硝化的杂质,并将此杂质命名为缬沙坦杂质K,结构式如下:
通过定向合成该杂质后,经液相定位,证实该杂质确是缬沙坦杂质K。
发明内容
本发明提供了一种缬沙坦的制备方法,通过对缬沙坦产品中缬沙坦杂质的研究,确定缬沙坦杂质K的性质,通过对缬沙坦合成中环合后处理方式的改变,来控制杂质的含量,制备出高纯度的缬沙坦产品。
一种缬沙坦的制备方法,包括以下步骤:
将L-缬氨酸甲酯盐酸盐与2-氰基-4’-溴甲基联苯进行第一步反应,再与正戊酰氯进行第二步反应,最后进行第三步反应得到缬沙坦粗品;
所述第三步反应包括:在三乙胺盐酸盐催化下第二步反应的产物与叠氮化钠反应,反应后加入次氯酸盐,并用酸调节pH至2~5,静置分层,将有机层洗涤,然后加入碱调节pH至10~13,保温反应,反应结束后静置分层,将水层降温,用酸调节pH至0.5~3,过滤,洗涤得到缬沙坦粗品。
所述缬沙坦粗品的反应合成路线如下:
其中,第三步反应中以二甲基甲酰胺(DMF)作为反应溶剂,次氯酸盐为次氯酸钠,酸为盐酸,碱为氢氧化钾,反应式中以上述条件为例。
本发明中,对第三步反应改进,能够有效避免缬沙坦杂质K,由于缬沙坦杂质K为亚硝基化合物,毒性较大,因此,控制缬沙坦杂质K为未检出是本发明缬沙坦的制备方法的目的,同时,又因为缬沙坦杂质K是缬沙坦脱戊酰基产物与亚硝酸反应产生,为此本发明对环合后处理方式进行调整,即在后处理时不使用亚硝酸钠破坏过量的叠氮化钠,改用次氯酸盐,这样可以切断亚硝酸的来源,可以完全消除杂质K的生成,并且,对其他条件进行了相应的调整,还能够避免其他难处理杂质的产生,根据上述合成路线进行合成,得到缬沙坦,缬沙坦杂质K为未检出。
作为优选,所述第一步反应以二氯甲烷作为反应溶剂以及以三乙胺为缚酸剂,三乙胺能够较好地溶解在二氯甲烷中,从而保证反应的顺利进行并能够减少副反应以减少杂质的产生。
所述第一步反应的反应条件为:先将L-缬氨酸甲酯盐酸盐与2-氰基-4’-溴甲基联苯混合反应1~4小时,再在20℃~35℃反应12~20小时,然后升温至30℃~50℃反应1~3小时,之后升温回流反应0.5~2小时。该反应条件有利于反应的顺利进行,并能够减少副反应以减少杂质的产生。
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