[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，人们对显示效果的要求越来越高，所以改善显示效果成为各大厂商要解决的问题。

显示面板通常包括彩膜基板和阵列基板。图1为现有技术中的彩膜基板的结构示意图，如图1所示，该彩膜基板包括：衬底基板203，形成于衬底基板203上的彩色滤光层202和黑矩阵204，形成于彩色滤光层202和黑矩阵204上的平坦层201。其中，通常先制作黑矩阵204，再制作彩色滤光层202，黑矩阵204用于对像素显示周边的光线进行遮挡，防止混色的发生以及暗态漏光。图2为现有技术中的光线通过彩膜基板的示意图，如图2所示，现有彩膜基板中，当光线照射至彩膜基板上时，黑矩阵将光线挡住，不透光区域的宽度等于黑矩阵的底部宽度，此种彩膜基板结构中由于黑矩阵覆盖的区域的光线被完全遮挡住了，光线不能透过，因此在此种彩膜基板用于图像显示时，使得图像显示不细腻，从而降低了画面显示质量。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，通过利用光的折射原理，使光照射到弧面结构或者斜面结构后发生折射偏移到黑矩阵的下方，在不减小黑矩阵宽度的情况下，能在视觉上减小黑矩阵的尺寸，使图像看起来更加细腻，提高了画面显示质量。

为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板，该彩膜基板包括：衬底基板、彩色滤光图形和黑矩阵，所述彩色滤光图形和所述黑矩阵形成于所述衬底基板上，所述彩色滤光图形的边缘为弧面结构或者斜面结构，所述黑矩阵形成于彩色滤光图形的空隙中，所述黑矩阵与所述彩色滤光图形接触的位置为弧面或者斜面结构。

可选地，该彩膜基板还包括平坦层，所述平坦层形成于所述彩色滤光图形和所述黑矩阵上。

可选地，形成所述彩色滤光图形的材料的折射率小于形成所述平坦层的材料的折射率。

可选地，所述彩色滤光图形的厚度大于所述黑矩阵的厚度。

为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成彩色滤光图形，所述彩色滤光图形的边缘为弧面结构或者斜面结构；

在所述彩色滤光图形的空隙中形成黑矩阵，所述黑矩阵与所述彩色滤光图形接触的位置为弧面或者斜面结构。

可选地，该方法还包括在衬底基板上形成平坦层，所述平坦层形成于所述彩色滤光图形和所述黑矩阵上。

可选地，形成所述彩色滤光图形的材料的折射率小于形成所述平坦层的材料的折射率。

可选地，所述彩色滤光图形的厚度大于所述黑矩阵的厚度。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括：阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板采用上述的彩膜基板。

为实现上述目的，本发明提供一种显示装置，包括：显示面板，所述显示面板采用上述的显示面板。

本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，该彩膜基板包括：衬底基板、彩色滤光图形和黑矩阵，彩色滤光图形和黑矩阵形成于衬底基板上，彩色滤光图形的边缘为弧面结构或者斜面结构，黑矩阵形成于彩色滤光图形的空隙中，黑矩阵与彩色滤光图形接触的位置为弧面或者斜面结构。这样，通过利用光的折射原理，光照射到弧面结构后发生折射，可以偏移到黑矩阵的下方，与传统方法相比，在黑矩阵宽度相同的条件下，能在视觉上减小黑矩阵的尺寸，使屏幕看起来更加细腻。

附图说明

图1为现有技术中的彩膜基板的结构示意图；

图2为现有技术中的透过彩膜基板的光线示意图；

图3为本发明实施例一提供的彩膜基板的结构示意图；

图4为本发明实施例一中光线通过彩膜基板中的示意图；

图5为本发明实施例一中光线通过彩膜基板的原理示意图；

图6为本发明实施例二提供的彩膜基板的结构示意图；

图7为本发明实施例三提供的彩膜基板的制作方法流程图；

图8a为本发明实施例三中形成红色滤光图形的示意图；

图8b为本发明实施例三中形成绿色滤光图形的示意图；

图8c为本发明实施例三中形成蓝色滤光图形的示意图；

图8d为本发明实施例三中形成黑矩阵的示意图；

图8e为本发明实施例三中形成平坦层的示意图。

具体实施方式