[发明专利]高频加热烹调装置在审
申请号: | 201310522383.4 | 申请日: | 2013-10-29 |
公开(公告)号: | CN103791529A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 内山智美 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | F24C7/02 | 分类号: | F24C7/02;F24C7/06;F24C7/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高频 加热 烹调 装置 | ||
1.一种高频加热烹调装置,该高频加热烹调装置具有:
加热室,其收纳被加热物;
微波产生部,其产生向所述加热室供给的微波;
卡定部,其设置在所述加热室内的相对的左右侧壁上;
加热盘,其由所述卡定部以能够拆装的方式支承,且在上下方向上将所述加热室隔开;
高频发热体,其设置在所述加热盘的下表面;
激励部,其将所述微波产生部产生的微波放射到比所述加热盘靠下侧的加热室内的空间中;
水蒸汽产生装置;
水蒸汽喷出孔,其开设于比所述加热盘靠上侧的加热室内的空间,向所述加热室喷出由所述水蒸汽产生装置产生的水蒸汽;
操作部,其输入与所述被加热物的加热处理相关的信息;以及
控制部,其根据通过所述操作部输入的与加热处理相关的信息,控制针对被加热物的加热运转,
其中,在通过所述操作部输入的与加热处理相关的信息是与蒸制烹调相关的信息的情况下,所述控制部控制为执行第1加热处理和第2加热处理,来对所述被加热物进行蒸制烹调,
i)所述第1加热处理为:驱动所述水蒸汽产生装置,从所述水蒸汽喷出孔向所述加热室中供给水蒸汽,利用水蒸汽对放置于所述加热盘的所述被加热物进行加热,
ii)所述第2加热处理为:在实施所述第1加热处理后,驱动所述微波产生部,利用微波对所述高频发热体和放置于所述加热盘的所述被加热物进行加热。
2.根据权利要求1所述的高频加热烹调装置,其中,
在通过所述操作部输入的与加热处理相关的信息是与蒸烤烹调相关的信息的情况下,所述控制部控制为在执行了所述第1加热处理和所述第2加热处理之后,执行第3加热处理来对所述被加热物进行蒸烤烹调,所述第3加热处理为:继续驱动所述微波产生部,利用微波继续加热所述高频发热体和放置于所述加热盘的所述被加热物,使得蓄积于所述加热盘中的水蒸发,之后还继续驱动所述微波产生部,使所述加热盘升温到超过100℃,在所述被加热物的底面附着烧烤色。
3.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
在所述第2加热处理中,也继续驱动所述水蒸汽产生装置,利用水蒸汽和微波对放置于所述加热盘的所述被加热物进行加热。
4.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
所述加热盘是由不透过微波的材质构成的。
5.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
所述激励部是由在特定半径方向上具有指向性的旋转天线构成的。
6.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
在所述加热室的上部具有辐射热供给部,该辐射热供给部利用与微波不同的热辐射来加热所述被加热物。
7.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
所述高频加热烹调装置具有对流热供给部,该对流热供给部产生向所述加热室供给的对流热。
8.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
所述高频加热烹调装置具有搅拌所述加热室的气体、使所述加热室的气体循环的循环风扇。
9.根据权利要求1或2所述的高频加热烹调装置,其中,
所述高频加热烹调装置设置有检测所述加热室内的温度的温度检测部,所述控制部根据由所述温度检测部检测出的温度,控制所述微波产生部和所述水蒸汽产生部。
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