[发明专利]一种大面积微波等离子体化学气相沉积系统无效

专利信息
申请号: 201310474811.0 申请日: 2013-10-12
公开(公告)号: CN103526187A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 熊礼威;龚国华;汪建华;翁俊;崔晓慧 申请(专利权)人: 武汉工程大学
主分类号: C23C16/517 分类号: C23C16/517;C23C16/511;C23C16/513;C23C16/27
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 崔友明
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 大面积 微波 等离子体 化学 沉积 系统
【权利要求书】:

1.一种大面积微波等离子体化学气相沉积系统,该系统包括:真空腔体、上盖、波导、模式转换天线、基片、基片台,其特征在于:所述的真空腔体下部具有导入微波的开口部和抽真空的抽气口,上部具有进气管道的接口;所述的上盖顶部和真空腔四周设有观察窗;上盖上设置有不同尺寸的凹部;微波通过夹持于基片台下方和真空腔体之间的石英环导入真空腔体内;所述的基片台与所述上盖水平平行,其上设置有水冷装置。

2.根据权利要求书1所述的大面积微波等离子体化学沉积系统,其特征在于:所述的真空腔为多模式腔体,由不锈钢等不易受高温发生变形的材料制成。

3.根据权利要求书1所述的大面积微波等离子体化学沉积系统,其特征在于:所述的基片为钨板、钼板或硅片。

4.根据权利要求书2所述的大面积微波等离子体化学沉积系统,其特征在于:所述的模式转换天线上端以喇叭口的形状与水冷基片台下端焊接,同时其与水冷基片台和真空腔体中心对中。

5.根据权利要求书4所述的大面积微波等离子体化学沉积系统,其特征在于:所述的真空腔体下部设有与真空腔体中心线对中的陶瓷环。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉工程大学,未经武汉工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310474811.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top