[发明专利]薄膜沉积设备、制造有机发光显示装置的方法及显示装置有效
申请号: | 201310381944.3 | 申请日: | 2011-04-27 |
公开(公告)号: | CN103474447A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 宋正培;崔凡洛;李相泌;宋泳录 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56;C23C14/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳;薛义丹 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 制造 有机 发光 显示装置 方法 | ||
本申请要求于2010年4月28日向韩国知识产权局提交的第10-2010-0039496号韩国专利申请的优先权并主张其权益,该申请的公开通过引用而整体包含于此。
技术领域
本发明的多个实施例涉及一种薄膜沉积设备、一种通过使用该薄膜沉积设备来制造有机发光显示装置的方法及一种通过利用该方法而制造的有机发光显示装置。
背景技术
有机发光显示装置比其他显示装置具有更大的视角、更好的对比特性以及更快的响应速率,由此作为下一代显示装置而已经吸引了注意。
有机发光显示装置通常具有包括阳极、阴极和设置在阳极和阴极之间的发射层的堆叠结构。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并由此发光时,显示装置显示有颜色的图像。然而,这样的结构难以实现高的发光效率,由此,选择性地将包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等的中间层额外地设置在发射层与每个电极之间。
此外,实际上在有机薄膜中形成诸如发射层和中间层的精细的图案非常困难,并且红光发射效率、绿光发射效率和蓝光发射效率根据有机薄膜而改变。由于这些原因,不容易通过利用传统的薄膜沉积设备在诸如具有5G或更大尺寸的母玻璃之类的大的基底上形成有机薄膜,由此难以制造具有令人满意的驱动电压、电流密度、亮度、色纯度、发光效率、寿命特性的大的有机发光显示装置。
有机发光显示装置包括中间层,中间层包括设置在彼此相对布置的第一电极和第二电极之间的发射层。可通过各种方法形成电极和中间层,各种方法中的一种方法是沉积方法。当通过利用沉积方法来制造有机发光显示装置时,将与要形成的薄膜具有相同图案的精细金属掩模(FMM)设置得紧密接触基底并将薄膜材料沉积在整个FMM上,以形成具有期望图案的薄膜。
发明内容
根据本发明的多个实施例提供了一种薄膜沉积设备、利用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法以及利用该方法制造的有机发光显示装置,该薄膜沉积设备可容易制造,可被简单地应用于大规模制造大尺寸的显示装置,提高生产率和沉积效率。
根据本发明的一个方面,提供了一种薄膜沉积设备以在基底上产生薄膜,该薄膜沉积设备包括多个薄膜沉积组件,每个薄膜沉积组件包括:沉积源,包括沉积材料,所述沉积源排放沉积材料;沉积源喷嘴单元,布置在所述沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,与所述沉积源喷嘴单元相对地布置并具有沿所述第一方向布置的多个图案化狭缝;阻挡板组件,包括沿所述第一方向布置的多个阻挡板,所述阻挡板组件布置在所述沉积源喷嘴单元和所述图案化缝隙片之间,所述阻挡板组件将所述沉积源喷嘴单元和所述图案化缝隙片之间的空间划分为多个子空间,其中,所述薄膜沉积设备与所述基底分开一定的距离,所述薄膜沉积设备和所述基底能相对彼此移动,所述沉积材料包括产生薄膜的材料,所述薄膜选自于由红光(R)发射层、绿光(G)发射层、蓝光(B)发射层和多个辅助层组成的组中。
薄膜沉积组件的数量可以是至少五个,分别布置在至少五个薄膜沉积组件的沉积源中的沉积材料可包括用来顺序地形成B发射层、多个辅助层中的一个辅助层、G发射层、多个辅助层中的另一个辅助层和R发射层的材料。薄膜沉积组件的数量可以是至少五个,分别布置在至少五个薄膜沉积组件的沉积源内的沉积材料可包括用来顺序地形成B发射层、多个辅助层中的一个辅助层、R发射层、多个辅助层中的另一个辅助层和G发射层的材料。沉积材料可分别布置在多个薄膜沉积组件的沉积源内,也可顺序地布置在基底上。薄膜沉积设备和基底中的一个与薄膜沉积设备和基底中的另一个可沿平行于基底的表面的平面能相对彼此移动,沉积材料沉积在基底的所述表面上。所述多个薄膜组件的图案化缝隙片可比所述基底小。可单独地控制多个薄膜沉积组件的沉积源的沉积温度。每个薄膜沉积组件的阻挡板组件可形成从沉积源排放的沉积材料的流动路径。每个阻挡板可沿与所述第一方向基本上垂直的第二方向延伸并将沉积源喷嘴单元与图案化缝隙片之间的空间划分为多个子沉积空间。
每个阻挡板组件可包括第一阻挡板组件和第二阻挡板组件,第一阻挡板组件包括多个第一阻挡板,第二阻挡板组件包括多个第二阻挡板。每个第一阻挡板和每个第二阻挡板可沿基本上垂直于所述第一方向的第二方向延伸并将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分为多个子沉积空间。
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的