[发明专利]一种透光隔热膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种透光隔热膜及其制造方法。

背景技术

隔热膜的主要作用是在阻碍热量的传递。隔热膜不仅广泛使用于各种交通工具上，也大量使用在建筑物上。据统计，在一般的商业大楼中，和空调相关的用电量约占总用电量的47％。所以，降低空调的用电需求，对于节省大楼运作成本是一项很重要的课题。

太阳光中的红外线部分是自然界最主要的热源。太阳光(特别是其中的红外线部分)进入商业大楼内部后，会使得室内温度提高，为降低进入建物内的太阳辐射，一般会在商业大楼的窗户贴上隔热膜。然而，隔热膜除了能够阻挡太阳光中的红外线部分，也会阻挡太阳光中的可见光，而导致商业大楼内部空间的亮度降低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种透光性能优良、红外和紫外反射率均较高、制造工艺简单，经久耐用的透光隔热膜及其制造方法。

本发明的目的通过如下技术方案实现：

一种透光隔热膜的制造方法，包括以下步骤：

(1)提供基材；

(2)采用物理气相沉积工艺(PVD)在基材上表面沉积钛层，在沉积过程中对沉积表面施加一个方向控制电场，使得钛层晶粒沉积方向一致；

(3)在钛层表面沉积氮化钛层；

(4)将步骤(3)制得的半成品烘干；

(5)采用偏压磁控溅射方法在氮化钛层上沉积一层镀膜层；

(6)将步骤(5)制得的半成品烘干；

(7)在镀膜层表面涂布一层具有抗冲击性的抗刮层；

(8)基材下表面涂布黏胶层；

(9)在基材下表面的黏胶层上覆盖移除膜；

(10)最后经过干燥，一体成型得到所述的透光隔热膜。

优选的，基材为碳纤维膜；

优选的，所施加的方向控制电场为竖直方向，使得钛层晶粒呈竖条状排列。

优选的，在钛层表面沉积氮化钛层采用物理气相沉积工艺。

优选的，所述镀膜层为氧化银、氧化锌或氧化镍。

优选的，所述抗刮层为PET保护膜。

优选的，所述移除膜为PET保护膜。

优选的，物理气相沉积工艺(PVD)的沉积温度为50-100℃，沉积时间为0.5-1h。

优选的，所述烘干温度为80-110℃，烘干时间为2-3h；所述干燥温度为120-140℃，干燥时间为3-4h。

更优选的，在镀膜层与抗刮层之间还涂布有一电介质层。

更优选的，在步骤(6)和步骤(7)之间增加电介质沉积工艺在镀膜层与抗刮层之间沉积二氧化硅电介质层，该电介质沉积工艺采用等离子变频功率逐渐增强的方法进行电介质层沉积，使得在沉积过程中，沉积速率随时间不断提高，该层的沉积品质也显著提高。

更优选的，在PET保护膜表面再覆盖一层丝网，所述丝网为银丝网或碳素网；在丝网表面再次涂布一层第二PET保护膜。

更优选的，在第二PET保护膜上覆盖耐磨层，耐磨层由透明丙烯酸层构成。

更优选的，在第二PET保护膜上覆盖隔热增强层和耐磨层之间增加隔热增强层；所述隔热增强层的组份组成(Kg)如下：

物理气相沉积(Physica1 Vapor Deposition，PVD)工艺表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，其中电离为离子的情形即为离子化的物理气相沉积(IPVD)。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

优选地，物理气相沉积为离子化的物理气相沉积。

溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。在磁控溅射中，由于磁场作用，等离子体区被强烈地束缚在距靶面附近大约60mm的区域内，被溅射出的靶材粒子若直接沉积到基体表面，其速度较小，粒子能量较低，膜-基结合强度较差，且低能量的原子沉积在基体表面迁移率低，易生成多孔粗糙的柱状结构薄膜。最直接的解决方案是给基体施加一定的负偏压。当基体加负偏压时，等离子体中的离子将受到负偏压电场的作用而加速飞向基体。到达基体表面时，离子轰击基体，并将从电场中获得的能量传递给基体，导致基体温度升高，因此要选择适当的负偏压，并且水冷冷却辊。