[发明专利]一种透光隔热膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310380358.7 申请日: 2013-08-28
公开(公告)号: CN103496202A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 葛敏军 申请(专利权)人: 杭州正奥科技有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B15/09;B32B15/14;B32B27/36;C23C14/22;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310022 浙江省杭州市下城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 透光 隔热 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种透光隔热膜的制造方法,包括以下步骤:

(1)提供基材;

(2)采用物理气相沉积工艺(PVD)在基材上表面沉积钛层,在沉积过程中对沉积表面施加一个方向控制电场,使得钛层晶粒沉积方向一致;

(3)在钛层表面沉积氮化钛层;

(4)将步骤(3)制得的半成品烘干;

(5)采用偏压磁控溅射方法在氮化钛层上沉积一层镀膜层;

(6)将步骤(5)制得的半成品烘干;

(7)在镀膜层表面涂布一层抗刮层;

(8)基材下表面涂布黏胶层;

(9)在基材下表面的黏胶层上覆盖移除膜;

(10)最后经过干燥,一体成型得到所述的透光隔热膜。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所施加的方向控制电场为竖直方向,使得钛层晶粒呈竖条状排列,在钛层表面沉积氮化钛层采用物理气相沉积工艺。

3.根据权利要求1-2任一所述的方法,其特征在于:所述镀膜层为氧化银、氧化锌或氧化镍。

4.根据权利要求1-3任一所述的方法,其特征在于:所述抗刮层为PET保护膜;基材为碳纤维膜。

5.根据权利要求1-4任一所述的方法,其特征在于:在镀膜层与抗刮层之间还涂布有一层电介质层,所述电介质层为采用等离子变频功率逐渐增强的方法进行电介质层沉积的二氧化硅电介质层。

6.根据权利要求1-5任一所述的方法,其特征在于:在PET保护膜表面再覆盖一层丝网,所述丝网为银丝网或碳素网;在丝网表面再次涂布一层第二PET保护膜。

7.根据权利要求1-6任一所述的方法,其特征在于:在第二PET保护膜上覆盖耐磨层,耐磨层由透明丙烯酸层构成。

8.根据权利要求1-7任一所述的方法,其特征在于:

在第二PET保护膜上覆盖隔热增强层和耐磨层之间增加隔热增强层;所述隔热增强层的组份组成(Kg)如下:

9.根据权利要求1-8任一所述的方法,其特征在于:

物理气相沉积工艺(PVD)的沉积温度为50-100℃,沉积时间为0.5-1h;所述烘干温度为80-110℃,烘干时间为2-3h;所述干燥温度为120-140℃,干燥时间为3-4h。

10.根据权利要求1-9所述的方法制造得到的透光隔热膜。

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