[发明专利]具薄膜的基材单元的制法及具薄膜的基材单元

权利要求书

1.一种具薄膜的基材单元的制法，其特征在于，其包括有：

制备塑泥前产物：以一种以上的塑泥微米粉末以及一种以上的塑泥纳米粉末混合，制备成塑泥前产物，其中，塑泥微米粉末与塑泥纳米粉末各占塑泥前产物的重量百分率10%至90%；

搅拌混合：加入占塑泥前产物重量百分率40%至60%的水，并与塑泥前产物充分搅拌形成塑泥；

辊压整平：将塑泥以辊轮加压整平；

模具塑形：将整平后的塑泥置入模具内塑形；

基材成型：将模具塑形后的塑泥，置入烤炉内以80℃至2100℃的温度进行烧结以形成基材；

制备薄膜前产物：以一种以上微米或纳米粉末的散热薄膜材料或是一种以上微米或纳米粉末的导电薄膜材料，混合稳定剂以及稀释溶剂而成薄膜前产物，其中，稳定剂为散热薄膜材料或导电薄膜材料总重量的3%至10%，稀释溶剂至少为散热薄膜材料或导电薄膜材料总重量的250%；

薄膜喷雾：将薄膜前产物以喷嘴配合气相喷雾的方式喷入气体抽取设备，再以气体抽取设备将微米以下的气体粒子状态的薄膜前产物均匀附着于基材表面；

薄膜成型：将表面喷涂薄膜前产物的基材，置入烤炉内以80℃至1600℃的温度进行烧结以形成薄膜。

2.根据权利要求1所述的具薄膜的基材单元的制法，其特征在于，塑泥微米粉末以及塑泥纳米粉末为天然矿石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。

3.根据权利要求1或2所述的具薄膜的基材单元的制法，其特征在于，微米或纳米粉末的散热薄膜材料为天然矿石粉、金属粉、氧化物粉、氮化硅粉或是碳化硅粉，稀释溶剂为薄膜材料总重量的250%至350%。

4.根据权利要求1或2所述的具薄膜的基材单元的制法，其特征在于，微米或纳米粉末的导电薄膜材料为天然矿石粉或金属粉，稀释溶剂为薄膜材料总重量的250%至450%。

5.一种具薄膜的基材单元，其特征在于，其包括：

一基材；以及

一薄膜，其是以权利要求1所述的制法结合于该基材的表面，且成分为天然矿石粉、金属粉、氧化物粉、氮化物粉或是碳化物粉。

6.根据权利要求5所述的具薄膜的基材单元，其特征在于，该基材的成分为天然矿石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。

7.一种具薄膜的基材单元，其特征在于，其包括：

一基材；以及

一薄膜，其是以权利要求1所述的制法结合于该基材的表面，且成分为天然矿石粉或是金属粉。

8.根据权利要求7所述的具薄膜的基材单元，其特征在于，该基材的成分为天然矿石、氧化物、氮化物、碳化物或是硫化物。