[发明专利]微型光谱仪及其制备装配方法

权利要求书

1.一种微型光谱仪，其特征在于，包括狭缝、玻璃平板、球面反射镜和光电探测器，所述玻璃平板的上表面刻有像差校正光栅，所述光电探测器安装于所述玻璃平板的下表面，且所述光电探测器位于光谱的焦平面上；入射光通过所述狭缝照射到所述玻璃平板上表面的像差校正光栅进行分光形成衍射光，所述衍射光从所述像差校正光栅出射经过所述球面反射镜聚焦，会聚在所述玻璃平板下表面的所述光电探测器上。

2.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述狭缝的宽度为10～50微米，厚度为0.05～0.2毫米。

3.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述像差校正光栅的栅线之间平行且间距不同。

4.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述像差校正光栅的栅线间距为0.5～5微米。

5.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述像差校正光栅为闪耀槽型光栅或矩形光栅或正弦形光栅。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的微型光谱仪，其特征在于，所述狭缝与所述像差校正光栅之间的距离可调节。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的微型光谱仪，其特征在于，所述光电探测器紧贴安装于所述玻璃平板的下表面，所述光电探测器与像差校正光栅之间的横向位置可调节。

8.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述玻璃平板的材料为熔石英光学玻璃、K9光学玻璃或B270光学玻璃；所述光电探测器为CCD阵列光电探测器或CMOS阵列光电探测器。

9.根据权利要求1所述的微型光谱仪，其特征在于，所述微型光谱仪还包括外壳，所述狭缝、玻璃平板、球面反射镜和光电探测器均位于所述外壳内。

10.一种微型光谱仪的制备装配方法，包括：

将金属膜层刻蚀形成透射的狭缝；

提供玻璃平板、球面反射镜和光电探测器，在所述玻璃平板的上表面形成像差校正光栅，将光电探测器安装于所述玻璃平板的下表面，且所述光电探测器位于光谱的焦平面上；以及调整所述狭缝、玻璃平板及球面反射镜的相对位置，使入射光通过所述狭缝照射到所述玻璃平板上表面的像差校正光栅进行分光形成衍射光，以及所述衍射光从所述像差校正光栅出射经过所述球面反射镜聚焦，会聚在所述玻璃平板下表面的所述光电探测器上。

11.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述在所述玻璃平板的上表面形成像差校正光栅的步骤包括：

通过电子束光刻及镀膜、紫外线光刻及镀膜、纳米压印及镀膜中至少一种方式在所述玻璃平板的上表面形成像差校正光栅。

12.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述将金属膜层刻蚀形成透射的狭缝包括：将宽度为10～50微米，厚度为0.05～0.2毫米的金属膜层刻蚀形成透射的狭缝；所述像差校正光栅的栅线间距为0.5～5微米。

13.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述调整所述狭缝、玻璃平板及球面反射镜的相对位置包括：

调节所述狭缝与所述像差校正光栅之间的距离。

14.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述像差校正光栅的栅线之间平行且间距不同。

15.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述光电探测器紧贴安装于所述玻璃平板的下表面；

所述方法还包括：

调节所述光电探测器与像差校正光栅之间的横向位置。

16.根据权利要求10所述的微型光谱仪的制备装配方法，其特征在于，所述玻璃平板的材料为熔石英光学玻璃、K9光学玻璃或B270光学玻璃；所述光电探测器为CCD阵列光电探测器或CMOS阵列光电探测器；

所述制备装配方法还包括：

提供外壳，将所述狭缝、玻璃平板、球面反射镜和光电探测器安装在外壳内。