[发明专利]一种去头皮屑香波组合物

权利要求书

1.一种含有苦参碱的香波组合物，其包含按重量计的以下组分：

a)5％至50％的表面活性剂；

b)0.05%至1.0%的苦参碱;

c)0.01%至4%的去头皮屑剂；

d)0.01%至10%的不挥发性硅氧烷；

e)0.01%至3%的阳离子聚合物；和

f)适量的水。

2.根据权利要求1的香波组合物，其中所述表面活性剂是选自阴离子表面活性剂、两性离子表面活性剂和非离子表面活性剂中的至少一种。

3.根据权利要求1或2的香波组合物，其中所述表面活性剂的含量为按重量计5％至25％，优选8％至20％，更优选10％至18％。

4.根据权利要求1至3中任一项的香波组合物，其中所述不挥发性硅氧烷在25℃下的粘度为20-2,000,000厘沲，优选1,000-1,500,000厘沲，更优选10,000-1,000,000厘沲。

5.根据权利要求1至4中任一项的香波组合物，其中所述不挥发性硅氧烷的含量为0.05%至8.0%，优选0.1%至5%，更优选0.5%至4.0%。

6.根据权利要求1至5中任一项的香波组合物，其中所述阳离子聚合物选自阳离子瓜尔胶、聚季铵盐-2、聚季铵盐-4、聚季铵盐-6、聚季铵盐-7、聚季铵盐-10和聚季铵盐-11中的至少一种。

7.根据权利要求1至6中任一项的香波组合物，其中所述阳离子聚合物的电荷密度在0.1至1.2meq/g之间，分子量在50至200万之间。

8.根据权利要求1至7中任一项的香波组合物，其中所述阳离子聚合物的含量为按重量计的0.02%至1%，优选0.05%至0.9%，更优选0.1%至0.9%，特别优选0.2-0.5%。

9.根据权利要求1至8中任一项的香波组合物，其中所述苦参碱的含量为按重量计的0.02%至1.0%，优选0.1%至1.0%，更优选0.2%至1.0%，特别优选0.3%至1.0%。

10.根据权利要求1至9中任一项的香波组合物，其中所述不挥发性硅氧烷选自以下物质中的一种或多种：聚硅氧烷类或其混合物；PEG化的脂肪酸酯和PEG化的聚硅氧烷类；植物油脂或其改性物,例如油橄榄果油、霍霍巴籽油、葵花籽油、小麦胚芽油、牛油果树果脂、PEG-40氢化蓖麻油和马来酸改性蓖麻油；润肤酯类,例如PEG-7甘油椰油酸酯、辛酸/癸酸甘油三酯、C_12-13醇乳酸酯、PPG-3苄基醚肉豆蔻酸酯和甘油油酸酯；其他润肤类物质，例如海藻多糖、硬脂基（二羟基丙基）二甲基铵寡糖、氢化聚癸烯、PPG-3辛基醚和甲基葡糖醇聚醚-20。

11.根据权利要求1至10中任一项的香波组合物，，其中所述去头皮屑剂选自吡啶硫酮锌、氯咪巴唑和吡罗克酮乙醇胺盐中的至少一种。

12.根据权利要求1至11中任一项的香波组合物，其还包含以下组分中的一种或多种：助悬剂、头发生长调节剂、抗静电剂、泡沫促进剂、粘度调节剂和增稠剂、pH调节剂、遮光剂或珠光剂、染料、有机溶剂和稀释剂。

13.一种清洁和调理头发的方法，包括向头发施用有效量的权利要求1至12中任一项的香波组合物。

14.权利要求1至12中任一项的香波组合物在制备用于清洁和调理头发的洗发产品中的用途。