[发明专利]显示设备、裸眼3D功能面板的信号基板及其制造方法

权利要求书

1.一种裸眼3D功能面板的信号基板的制造方法，其特征在于，该方法包括：

在基板上形成透明电极薄膜，在透明电极薄膜上形成钝化层；

通过构图工艺形成透明电极以及钝化层过孔，所述过孔用于连接透明电极与信号线；

制作信号线，所述信号线通过所述过孔与透明电极连接。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述构图工艺包括：在钝化层上涂覆光刻胶，并对光刻胶进行曝光及显影的光刻过程、光刻后的刻蚀过程和刻蚀后的去除光刻胶过程中的部分过程或全部过程。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过构图工艺形成透明电极以及钝化层过孔时，在钝化层上涂覆的光刻胶通过半阶曝光技术曝光、显影后，钝化层上覆盖的光刻胶层包括：

第一光刻胶层和第二光刻胶层，其中，第一光刻胶层覆盖需要形成透明电极图形的位置，第二光刻胶层覆盖需要形成用于连接透明电极与信号线的过孔的位置，并且，第一光刻胶层的厚度大于第二光刻胶层的厚度。

4.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于，制作所述过孔，包括：

刻蚀掉无光刻胶覆盖的钝化层；

去除第二光刻胶层；

通过刻蚀掉暴露出的透明电极层，形成透明电极；

通过刻蚀掉原来被第二光刻胶层覆盖的钝化层，形成所述过孔。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，第一光刻胶层的厚度为1.5-3μm，第二光刻胶层的厚度为0.5-1μm。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，去除第二光刻胶层时，第一光刻胶层被去除掉0.5-1um厚度的光刻胶。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，通过灰化处理去除第二光刻胶层。

8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，通过刻蚀掉暴露出的透明电极层，形成透明电极，包括：

刻蚀掉暴露出的透明电极层时需要将其进行过刻蚀，过刻蚀后形成的透明电极相对于其上覆盖的钝化层有0.5-2um的內缩尺寸，使得所述信号线仅能通过所述过孔与透明电极相连。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，制作信号线，包括：

沉积信号线金属层；

在信号线金属层上涂抹第三光刻胶层，通过曝光及显影，使得第三光刻胶层的图形为信号线所需图形；

刻蚀掉未被第三光刻胶层覆盖的信号线金属层；

去除第三光刻胶层，形成信号线。

10.一种通过权利要求1-9任一权项制得的裸眼3D功能面板的信号基板，其特征在于，该信号基板包括：基板以及位于基板上的透明电极，位于透明电极层上的钝化层，以及钝化层上的信号线，其中，信号线通过钝化层上的过孔与透明电极相连。

11.根据权利要求10所述的信号基板，其特征在于，所述钝化层上过孔的位置处暴露出的透明电极位于基板的显示区。

12.根据权利要求10所述的信号基板，其特征在于，所述透明电极为间隔的透明电极。

13.根据权利要求10所述的信号基板，其特征在于，所述信号线为环形的信号线，所述透明电极为条形的透明电极。

14.根据权利要求10所述的信号基板，其特征在于，所述透明电极为氧化铟锡透明电极。

15.一种显示设备，其特征在于，该设备包括权利要求10-14任一权项所述的裸眼3D功能面板的信号基板。

16.根据权利要求15所述的显示设备，其特征在于，所述显示设备为液晶显示器。