[发明专利]大面积有机发光二极管显示器及其制造方法有效
申请号: | 201310228807.6 | 申请日: | 2013-06-08 |
公开(公告)号: | CN103887319B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 金英美;许峻瑛;李妍景;朴容敏 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国,钟强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 大面积 有机 发光二极管 显示器 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造具有像素区域矩阵的有机发光二极管显示器的方法,所述像素区域矩阵至少包括第一像素区域和第二像素区域,所述方法包括:
横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积光刻胶;
通过剥离位于所述第一像素区域中的第一部分光刻胶而保留位于所述第二像素区域中的第二部分光刻胶,将所述光刻胶构图为图案化的光刻胶;
横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积有机发光层,所述有机发光层沉积在位于所述第二像素区域中的图案化的光刻胶上方;
在所述有机发光层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积电子传输层;以及
通过剥离所述第二部分光刻胶去除位于所述第二像素区域中的部分有机发光层和电子传输层,同时保留位于所述第一像素区域中的部分有机发光层和电子传输层。
2.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在所述有机发光层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积阴极层,
其中通过剥离所述第二部分光刻胶去除位于所述第二像素区域中的部分阴极层,同时保留位于所述第一像素区域中的部分阴极层。
3.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在去除部分有机发光层和电子传输层之后,横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共电子传输层。
4.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在所述第一像素区域和第二像素区域中形成阳极电极,
其中所述光刻胶沉积在所述阳极电极上方。
5.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共空穴注入层;
在所述公共空穴注入层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共空穴传输层,
其中所述光刻胶沉积在所述公共空穴传输层上方。
6.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在去除部分有机发光层和电子传输层之后,横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共阴极层。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一像素区域对应于第一颜色光,所述第二像素区域对应于与所述第一颜色光不同的一个或多个第二颜色光。
8.根据权利要求1所述的方法,其中沉积所述有机发光层包括沉积红色有机发光层、绿色有机发光层或蓝色有机发光层中的一种。
9.根据权利要求1所述的方法,其中沉积所述光刻胶包括沉积经过光二聚的氟化光刻胶。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述图案化的光刻胶沿所述第一像素区域的边缘具有倒锥形。
11.一种有机发光二极管显示器,包括:
至少包括第一像素区域和第二像素区域的像素区域矩阵;
形成在所述第一像素区域内的第一阳极;
形成在所述第二像素区域内的第二阳极,其中所述第二阳极与所述第一阳极分离;
横跨所述第一像素区域和第二像素区域形成在所述第一阳极和第二阳极上方的公共空穴注入层;
在所述公共空穴注入层上方形成在所述第一像素区域内的第一有机发光层;和
在所述公共空穴注入层上方形成在所述第二像素区域内的第二有机发光层,其中所述第二有机发光层与所述第一有机发光层分离。
12.根据权利要求11所述的有机发光二极管显示器,进一步包括:
横跨所述第一像素区域和第二像素区域形成在所述公共空穴注入层上方的公共空穴传输层,
其中所述第一有机发光层和第二有机发光层形成在所述公共空穴传输层上方。
13.根据权利要求11所述的有机发光二极管显示器,进一步包括:
形成在所述第一像素区域内的所述第一有机发光层上方的第一电子传输层;和
形成在所述第二像素区域内的所述第二有机发光层上方的第二电子传输层,所述第二电子传输层与所述第一电子传输层分离。
14.根据权利要求13所述的有机发光二极管显示器,进一步包括:
横跨所述第一像素区域和第二像素区域形成在所述第一电子传输层和第二电子传输层上方的公共电子传输层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的