[发明专利]形成太阳能电池的缓冲层的方法和由此形成的太阳能电池有效
申请号: | 201310217778.3 | 申请日: | 2013-06-03 |
公开(公告)号: | CN104022179B | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 陈世伟 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0749;H01L31/0352 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 太阳能电池 缓冲 方法 由此 | ||
1.一种制造光伏器件的缓冲层的方法,包括:
提供衬底,所述衬底具有设置在所述衬底上方的背接触层和设置在所述背接触层上方的吸收层;
在所述吸收层上沉积金属层;以及
在包括硫、硒或氧的环境中对沉积的所述金属层实施快速热退火处理以形成缓冲层,使得所述吸收层具有由硫、氧和硒所组成的组中的元素的原子百分比,所述吸收层和所述缓冲层之间的界面处的元素的原子百分比大于所述吸收层和所述背接触层之间的界面处的元素的原子百分比。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括由镉、锌、铟和Zn1-xMgx所组成的组中的其中一种材料。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括镉,并且所述环境包括由硫和H2S所组成的组中的至少一种材料。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括锌,并且所述环境包括由硫和H2S所组成的组中的至少一种材料。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括铟,并且所述环境包括由硫和H2S所组成的组中的至少一种材料。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括铟,并且所述环境包括由硒和H2Se所组成的组中的至少一种材料。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括Zn1-xMgx,并且所述环境包括氧。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述吸收层上沉积所述金属层的步骤包括沉积1nm至1000nm的金属。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述吸收层上沉积所述金属层的步骤包括沉积5nm至500nm的金属。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述缓冲层具有13nm至1300nm范围内的厚度。
11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述环境进一步包括惰性气体。
12.根据权利要求1所述的方法,其中,所述快速热退火在300℃至600℃的温度下实施。
13.一种制造光伏器件的方法,包括:
提供衬底;
在所述衬底上方形成背接触层;
在所述背接触层上方形成吸收层;
在所述吸收层上溅射金属层,所述金属层包括由镉、锌、铟和Zn1-xMgx所组成的组中的其中一种材料;以及
在包括硫、硒或氧的环境中对沉积的所述金属层实施快速热退火以形成缓冲层,使得所述吸收层具有由硫、氧和硒所组成的组中的元素的原子百分比,所述吸收层和所述缓冲层之间的界面处的元素的原子百分比大于所述吸收层和所述背接触层之间的界面处的元素的原子百分比;以及
在所述缓冲层上方形成前接触层。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述金属层包括由镉、铟、和锌所组成的组中的其中一种材料,并且所述环境包括由硫和H2S所组成的组中的至少一种材料。
15.根据权利要求13所述的方法,其中,所述金属层包括铟,并且所述环境包括由硒和H2Se所组成的组中的至少一种材料。
16.根据权利要求13所述的方法,其中,所述金属层包括Zn1-xMgx,并且所述环境包括氧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的