[发明专利]光辐射场均匀性测量装置及测量方法

说明书

技术领域

本发明涉及光辐射场均匀性测量领域,特别涉及一种基于旋转相机法的光辐射场均匀性测量装置及测量方法。

背景技术

在现有技术中,大面积光辐射场的均匀性测量一般有两种方法:

1、采用二维或者多维机械手臂，利用单一探测器进行空间扫描进行测量；该方法在进行测量时的速度依赖于机械手臂旋转或运行速度，其测量速度慢，占用空间大；

2、采用高分辨率相机对光辐射场进行成像，依次分析每个象元的信号，从而判定所述光辐射场的均匀性；在使用该方法时，由于各个像素的光谱影响不一致，在测试前必须利用一高精度光源对各个像素进行标定，其过程复杂繁琐。

基于此，现有技术确实有待于改进。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种光辐射场均匀性测量装置及测量方法，通过旋转相机的方式，使得各个像素的光谱响应函数可以随时修正，从而保证所述光辐射场均匀性测量数据的准确性。

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

本发明提供一种光辐射场均匀性测量装置，所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统，其中：

所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制，使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转；

所述成像系统安装于所述旋转系统上，用于对待测光辐射场进行成像，并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中。

优选的，所述旋转系统包括旋转台和调整台，其中，所述成像系统安装于所述旋转台上，所述旋转台安装于所述调整台上。

优选的，所述计算机控制系统对所述旋转台进行控制，使得所述旋转台可进行任意角度的旋转；所述调整台的位置相对于所述待测光辐射场可进行调节。

本发明还提供一种光辐射场均匀性测量方法，包括以下步骤：

S1、将所述待测光辐射场中心与所述成像系统拍摄的所述待测光辐射场的中心对准；

S2、将所述旋转系统进行旋转，并确定其对应所述成像系统的各像素的位置；

S3、根据测量的所述各像素位置对应的信号，计算所述各像素位置对应的光辐射场量，并确定所述待测光辐射场的均匀性。

优选的，所述步骤S2进一步包括：将所述旋转系统分别旋转0°和90°，并确定旋转后所述成像系统的各像素的位置。

优选的，所述各像素位置对应的信号为该像素对应光辐射场量和光谱响应的乘积。

本发明通过提供一种光辐射场均匀性测量装置及测量方法，通过旋转相机的方式，使得各个像素的光谱响应函数可以随时修正，从而保证所述光辐射场均匀性测量数据的准确性,尤其应用在相机面元像素响应未知的情况下直接对光辐射场均匀性实现绝对测量。

附图说明

图1为本发明一实施例的系统装置图；

图2为本发明一实施例的方法流程图；

图3为本发明一实施例中所述成像系统旋转0°时各像素信息；

图4为本发明一实施例中所述成像系统旋转90°时各像素信息。

具体实施方式

下面对于本发明所提出的一种光辐射场均匀性测量装置及测量方法，结合附图和实施例详细说明。

如图1所示，本发明提供一种光辐射场均匀性测量装置，所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统，其中：

所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制，使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转；

所述成像系统安装于所述旋转系统上，用于对待测光辐射场进行成像，并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中，所述成像系统为相机。

优选的，所述旋转系统包括旋转台和调整台，其中，所述成像系统安装于所述旋转台上，所述旋转台安装于所述调整台上。

优选的，所述计算机控制系统对所述旋转台进行控制，使得所述旋转台可进行任意角度的旋转；即安装于旋转台上的相机可以绕其成像中心进行360°旋转；所述调整台的位置相对于所述待测光辐射场可进行远近上下的调节，相机的拍摄以及拍摄数据均可通过数据线直接传递到所述计算机控制系统中。

如图2所示，本发明还提供一种光辐射场均匀性测量方法，包括以下步骤：

S1、将所述待测光辐射场中心与所述成像系统拍摄的所述待测光辐射场的中心对准；

S2、将所述旋转系统进行旋转，并确定其对应所述成像系统的各像素的位置；

S3、根据测量的所述各像素位置对应的信号，计算所述各像素位置对应的光辐射场量，并确定所述待测光辐射场的均匀性。