[发明专利]光辐射场均匀性测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种光辐射场均匀性测量装置，其特征在于，所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统，其中：

所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制，使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转；

所述成像系统安装于所述旋转系统上，用于对待测光辐射场进行成像，并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述旋转系统包括旋转台和调整台，其中，所述成像系统安装于所述旋转台上，所述旋转台安装于所述调整台上。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述计算机控制系统对所述旋转台进行控制，使得所述旋转台可进行任意角度的旋转；所述调整台的位置相对于所述待测光辐射场可进行调节。

4.一种光辐射场均匀性测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将所述待测光辐射场中心与所述成像系统拍摄的所述待测光辐射场的中心对准；

S2、将所述旋转系统进行旋转，并确定其对应所述成像系统的各像素的位置；

S3、根据测量的所述各像素位置对应的信号，计算所述各像素位置对应的光辐射场量，并确定所述待测光辐射场的均匀性。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述步骤S2进一步包括：

将所述旋转系统分别旋转0°和90°，并确定旋转后所述成像系统的各像素的位置。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述各像素位置对应的信号为该像素对应光辐射场量和光谱响应的乘积。