[发明专利]彩色滤光片、彩色滤光片制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201310146511.X 申请日: 2013-04-24
公开(公告)号: CN103217832A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 石岳 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/153
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 韩国胜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 制作方法 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种彩色滤光片、彩色滤光片制作方法和显示装置。

背景技术

目前,随着科技的发展和社会的进步,液晶显示器已经越来越广泛的被人们所应用,在工业生产、人民生活中起着至关重要的作用。

ADS(ADvanced Super Dimension Switch,高级超维场转换技术)通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场,使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转,从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场转换技术可以提高TFT-LCD产品的画面品质,具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点。针对不同应用,ADS技术的改进技术有高透过率I-ADS技术、高开口率H-ADS和高分辨率S-ADS技术等。

ADS模式的液晶显示面板具有超广视角的优点,但与普通型透射型液晶显示器一样,其在阳光下的显示效果依然不佳。

目前的彩色滤光片一般包括衬底基板、导电层、黑矩阵和彩色滤光层,彩色滤光层一般包括红、绿、蓝三种颜色的像素单元,相邻滤光层之间为黑矩阵。为了提升液晶显示的户外可读性,人们提出了半透半反技术,该技术使液晶显示器在阳光下的使用效果得到了一定的提升,然而,半透半反型液晶显示器由于其本身的结构设计,需要在一个子像素中有两个不同厚度的液晶盒,这样,使其在光学设计及制备工艺上增加了很大的难度,特别是在摩擦工艺时,会有很多死角无法进行配向,同时,用于半透半反型的液晶盒设计模式基本上都不具备广视角特性。

目前有提出以细化或去除黑矩阵材料的方式以提升像素开口率,提高数据线(data line)对阳光的反射率,进而提升ADS模式产品的户外可读性,该方法最大的优点就是工艺简单,但其有可能会造成“混色”现象,当其在户外使用时,虽然也有混色现象的发生,但由于外界光强较大,所以人眼不易察觉,所以“混色”的现象并不影响其在户外的使用;但当将其置于室内使用时“混色”现象就能被人眼轻易查出,这样就使其不适合在室内使用。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何实现液晶显示面板的透过率可调。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供一种彩色滤光片,包括衬底基板、彩色滤光层和黑矩阵,所述黑矩阵具有用于设置彩色滤光层的多个开口,所述黑矩阵靠近所述衬底基板的一侧设有第一透明导电层,所述黑矩阵远离所述衬底基板的一侧设有第二透明导电层,所述黑矩阵采用电致变色材料制成。

进一步地,所述第一透明导电层覆盖整个所述衬底基板或者覆盖所述黑矩阵所在区域,所述第二透明导电层覆盖所述黑矩阵。

进一步地,所述第二透明导电层远离所述衬底基板的一侧设有透明保护层。

本发明还提供一种显示装置,其包括上述的彩色滤光片。

本发明还提供一种彩色滤光片制作方法,其包括以下步骤:

S1、在衬底基板上形成第一透明导电层;

S2、在所述第一透明导电层上远离所述衬底基板的一侧形成具有用于设置彩色滤光层的多个开口的黑矩阵,所述黑矩阵的材质为电致变色材料;

S3、在所述黑矩阵上远离所述第一透明导电层的一侧形成第二透明导电层;

并且,所述彩色滤光片制作方法还包括步骤:在所述衬底基板上形成彩色滤光层,所述彩色滤光层设置于所述黑矩阵的开口区域。

进一步地,所述在所述衬底基板上形成彩色滤光层的步骤位于所述步骤S1之前。

进一步地,所述在所述衬底基板上形成彩色滤光层的步骤位于所述步骤S1和所述步骤S2之间。

进一步地,所述在所述衬底基板上形成彩色滤光层的步骤位于所述步骤S2和所述步骤S3之间。

进一步地,所述在所述衬底基板上形成彩色滤光层的步骤位于所述步骤S3之后。

进一步地,所述第一透明导电层覆盖整个所述衬底基板或者覆盖所述黑矩阵所在区域,所述第二透明导电层覆盖所述黑矩阵。

进一步地,所述彩色滤光片制作方法还包括步骤:在所述第二透明导电层远离所述衬底基板的一侧形成透明保护层。

(三)有益效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310146511.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top