[发明专利]用于光场装置的图像传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310081605.3 申请日: 2013-03-14
公开(公告)号: CN103915455B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 王唯科;张志清;吴佳惠;黄建雄;林承轩;郑杰元;陈昶维 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 张艳杰,张浴月
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 装置 图像传感器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于光场装置的图像传感器,包括:

多个次微透镜;

一间隔层,设置于上述次微透镜;以及

多个主微透镜,设置于上述间隔层,

其中每一上述主微透镜的一直径超过每一上述次微透镜的一直径。

2.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,还包括:

一感测层,包括多个感测单元;以及

多个滤光单元,其中每一上述滤光单元设置于上述感测单元中的一个,且每一上述次微透镜设置于上述滤光单元中的一个。

3.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中每一上述主微透镜的上述直径大于每一上述次微透镜的上述直径的2倍至20倍,每一上述主微透镜的一焦点位于上述次微透镜中的一个。

4.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中上述间隔层的一折射率小于1.6,每一上述主微透镜的一折射率小于1.7,每一上述次微透镜的一折射率大于1.7。

5.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中每一上述主微透镜的一折射率和上述间隔层的折射率相同。

6.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中上述间隔层包括SiO2,并为可透光的,上述主微透镜包括SiO2、MgF2、或是SiON,以及上述次微透镜包括SiN、TiO2、Ta2O5、或是HfO2

7.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中上述主微透镜包括多个第一微透镜以及多个第二微透镜,其中每一上述第一微透镜的一焦距大于每一上述第二微透镜的一焦距,且上述第一微透镜以及上述第二微透镜交错排列。

8.如权利要求1所述的用于光场装置的图像传感器,其中上述主微透镜包括多个第一微透镜、多个第二微透镜、以及多个第三微透镜,其中每一上述第一微透镜的一焦距大于每一上述第二微透镜的一焦距,每一上述第二微透镜的一焦距大于每一上述第三微透镜的一焦距,且上述第一微透镜、上述第二微透镜以及上述第三微透镜交错排列。

9.一种图像传感器的制造方法,包括:

提供一感测层;

形成多个次微透镜于上述感测层上;

经由一半导体工艺形成一间隔层于上述次微透镜上;以及

形成多个主微透镜于上述间隔层上,其中每一上述主微透镜的一直径超过每一上述次微透镜的一直径。

10.如权利要求9所述的图像传感器的制造方法,还包括形成多个滤光单元于上述感测层,且上述感测层包括多个感测单元,其中每一上述滤光单元设置于上述感测单元中的一个,且每一上述次微透镜设置于上述滤光单元中的一个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于采钰科技股份有限公司,未经采钰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310081605.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top