[发明专利]单层膜反射式平面金属光栅及其制作方法有效
| 申请号： | 201310066530.1 | 申请日： | 2013-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN103176231A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 陈赟;王显军;李艳茹;张胜红;陈宝刚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 王丹阳 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单层 反射 平面 金属 光栅 及其 制作方法 | ||
1.单层膜反射式平面金属光栅，包括：
金属基底(1)；
镀在所述金属基底(1)上的非反射层(4)和反射层(5)；
其特征在于，非反射层(4)与反射层(5)均为铬膜，非反射层(4)的厚度比反射层(5)的厚度小。
2.根据权利要求1所述的单层膜反射式平面金属光栅，其特征在于，所述的金属基底(1)的材料为不锈钢、铟钢、钛合金、铁或者铝。
3.单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
a.在金属基底(1)上真空蒸镀铬膜(2)；
b.在所述铬膜(2)表面涂上光刻胶，得到光刻胶层(3)；
c.对光刻胶层(3)进行曝光、显影；
d.对曝光、显影后没有光刻胶层(3)保护的铬膜(2)进行腐蚀，得到非反射层(4)，所述的非反射层(4)为未完全腐蚀透的铬膜(2)；
e.对有光刻胶层(3)保护的铬膜(2)进行去胶处理，得到反射层(5)，清洁金属基底(1)，得到单层膜反射式平面金属光栅。
4.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的金属基底(1)的材料为不锈钢、铟钢、钛合金、铁或者铝。
5.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的真空蒸镀采用离子束沉积法、真空磁控溅射法、化学气相沉积法或者真空蒸发法。
6.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的铬膜(2)的厚度为1-3μm。
7.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的光刻胶为正胶或者负胶。
8.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的光刻胶层(3)是采用旋涂、喷涂或者浸泡法制作的。
9.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的光刻胶层(3)的厚度为1-3μm。
10.根据权利要求3所述的单层膜反射式平面金属光栅的制作方法，其特征在于，所述的步骤d中的腐蚀时间为8-12min。
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