[发明专利]二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及二氧化硅溶液制备方法、含有通过该二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液的研磨液及使用该研磨液的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。 

背景技术

近年来，在磁记录介质(以下也称为磁盘)装置中，正在迅猛地推进高记录密度化。对于磁盘装置而言，通过使磁头稍稍飞行在高速旋转的磁盘上而进行扫描来实现随机存取，为了兼顾高记录密度和高速存取，要求缩小磁盘与磁头的间隔(磁头飞行高度)并且提高磁盘的转速。 

对于磁盘的基材而言，以往在铝(Al)上施加有镍-磷(Ni-P)镀层的基板为主流，但逐渐开始使用由于具有高刚性因而即使高速旋转也不易变形且表面的平滑性高的玻璃基板。 

伴随着这种磁盘装置的高记录密度化，对磁记录介质用玻璃基板要求的特性逐年变得严苛。特别是为了达到高记录密度，重要的是减少玻璃基板表面的异物和缺陷而使平滑性提高。 

一般而言，为了制造磁记录介质用玻璃基板，从板状玻璃等原板上切下圆盘形状的原基板，在中央部形成圆形的贯通孔后，对构成玻璃基板的外周的外周侧面的角部分和构成贯通孔的内壁的内周侧面的角部分进行倒角加工。然后，对玻璃基板的内周和外周的侧面和倒角部(以下将侧面和倒角部合并称为端面)进行研磨(端面研磨)，进而对相 向的一对主平面也进行研磨，然后，经过清洗工序而得到磁记录介质用玻璃基板。 

对于磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨而言，例如，在进行比较粗的一级研磨后，进行更精密的二级研磨、三级研磨(最终研磨)。主平面的研磨是为了将磨削主平面时产生的主平面的加工变质层除去、减小主平面的起伏和粗糙度而将主平面精加工成平滑的镜面而进行的，研磨中使用含有磨粒的研磨液。 

但是，在作为研磨液使用的、含有磨粒(例如二氧化硅粒子等)的溶液中在生产或保存的过程中混入有粗大粒子等异物的情况下，使用该研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨时，存在下述给磁记录介质用玻璃基板的质量带来不利影响的问题：在玻璃基板的表面上产生微小的损伤，异物附着在玻璃基板的表面并残留在最终制品的表面而成为缺陷等。 

针对这样的问题，专利文献1中公开了如下方法：使用两种过滤器，对过滤器入口压力进行控制而过滤溶液，从而将粗大磨粒除去。专利文献2中记载了一种研磨方法，其中具备对研磨浆料进行离心分离的工序。专利文献3中公开了使粗大粒径的二氧化硅微粒发生异相凝聚并通过离心分离将其除去的研磨用二氧化硅溶胶的制造方法。 

但是，专利文献1的方法存在如下问题：粘度较高的胶态二氧化硅会使过滤器堵塞，连胶态二氧化硅粒子也被过滤器捕获而使胶态二氧化硅的回收量减少(成品率差)等。对于专利文献2、3这样的利用离心分离的异物除去方法而言，离心分离的条件未得到优化，异物的除去并不充分。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1：日本特开2006-136996号公报 

专利文献2：日本特开2007-73686号公报 

专利文献3：日本特开2010-105136号公报 

发明内容

发明所要解决的问题 

本发明为了解决上述问题而完成，其目的在于提供将附着在玻璃基板的表面而成为凸起缺陷的异物、成为在玻璃基板的表面产生损伤的原因的异物从含有磨粒(二氧化硅粒子)的溶液中高效地除去的溶液制备方法、能够在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用的研磨液及使用该研磨液的具有更平滑的主平面的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。 

用于解决问题的手段 

本发明的二氧化硅溶液制备方法是从含有一次粒径为1~80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去异物的二氧化硅溶液制备方法，其特征在于，对离心加速度G、异物的沉降距离与沉降时间之比(h/t)和所述二氧化硅溶液的粘度η进行控制，以使由下式(1)表示的D_p为0.1×10^-4~1×10^-4cm。 

D_p=[18h·η/{(ρ_p-ρ_f)G·t}]^1/2…(1)