[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201310034529.0 | 申请日： | 2013-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103064225A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 王骁 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，包括基板以及基板上的公共电极的图形和绝缘层，其特征在于，所述基板上形成有连接低电平电位的导电图形，所述导电图形、绝缘层与公共电极的图形存在有交叠区域以形成滤波电容。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的栅绝缘层上形成有接地的导电图形，所述导电图形与公共电极的图形存在有交叠区域。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形与栅极驱动电路的接地点连接。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形为采用源漏金属层形成。
5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形和阵列基板的源电极、漏电极为通过一次构图工艺同时形成。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～5中任一项所述的阵列基板。
7.一种阵列基板的制造方法，所述阵列基板包括基板以及基板上的公共电极的图形和绝缘层，其特征在于，所述制造方法包括：在所述基板上形成连接低电平电位的导电图形，所述导电图形、绝缘层与公共电极的图形存在有交叠区域以形成滤波电容。
8.根据权利要求7所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，在所述阵列基板的栅绝缘层上形成接地的导电图形，所述导电图形与公共电极的图形存在有交叠区域。
9.根据权利要求7所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在所述阵列基板的栅绝缘层上形成接地的导电图形包括：
在所述栅绝缘层上形成与栅极驱动电路的接地点连接的所述导电图形。
10.根据权利要求8所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：通过一次构图工艺利用源漏金属层同时形成所述导电图形和阵列基板的源电极、漏电极。
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