[发明专利]含卤光活性恶唑啉酮衍生物及其制备方法有效
申请号: | 201310002520.1 | 申请日: | 2013-01-05 |
公开(公告)号: | CN103073516A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 史一安;黄德顺;刘晓芹;李利君;刘伟刚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C07D263/26 | 分类号: | C07D263/26;C07D203/24;C07D303/36;C07D301/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含卤光 活性 恶唑啉酮 衍生物 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种含卤光活性恶唑啉酮衍生物及其制备方法。
背景技术
烯烃的卤化反应是合成化学中最重要的基元反应之一,为烯烃的功能化提供了非常简便有效的途径。对烯烃的不对称卤化反应则可以在双键上同时引入两个手性杂原子,产物中的卤原子可以进一步发生多种转化,如立体选择性的取代反应等,从而成为有机合成中的重要合成子。对烯烃的不对称卤化反应由于其极大的重要性,引起了化学家的广泛兴趣,并在近年来取得了较大进展。目前,手性胺催化的体系报道较多,但大多局限于不对称卤内酯化。另外还有手性路易斯酸,手性布朗斯特酸和手性钯的催化例子。然而,该课题目前仍然有很多极具挑战的难题尚未解决。光活性恶唑啉酮衍生物是一种在有机合成领域非常重要的化合物,它可以作为有机反应中的合成子,也可以作为不对称合成中的手性辅基。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种含卤光活性恶唑啉酮衍生物。
本发明所合成的含卤光活性恶唑啉酮衍生物,其结构式如式I所示:
式I中,R选自下述基团中的任意一种:甲基、苯基和取代苯基;所述取代苯基中的邻、间、对位中任意一个或两个位置被下述任意一个基团取代:甲基、硝基、氟原子、氯原子和溴原子;
R1选自下述基团中的任意一种:氢、烷基、含取代基的烷基和环烷基;所述烷基可以为C1-C16的直链或支链烷基;所述含取代基的烷基中的取代基可在烷基中任意位置取代,所述取代基可选自下述任意一种:苯基、苄氧基、醚基、酯基、磺酰酯基、胺基、炔基、烯基、氰基、氟原子、氯原子、溴原子和碘原子;所述环烷基为C3-C8的环烷基。
R2选自氢或烷基,烷基可以为C1-C5的烷基。
本发明的目的之二是提供一种底物价格低廉、反应条件温和、操作简便、具有工业化生产潜力的合成上述含卤光活性恶唑啉酮衍生物的方法。
本发明所提供的制备含卤光活性恶唑啉酮衍生物的方法,包括下述步骤:
在手性膦配体与金属路易斯酸形成的配合物的催化作用下,将式V所示溴源和式II所示烯烃底物于有机溶剂中进行溴胺环化反应,反应完毕得到式I所示化合物。
上述方法中,所述式II中,R选自下述基团中的任意一种:甲基、苯基和取代苯基;所述取代苯基中的邻、间、对位中任意一个或两个位置被下述任意一个基团取代:甲基、硝基、氟原子、氯原子和溴原子;R1选自氢、烷基、含取代基的烷基或环烷基,烷基可以为C1-C16的直链或支链烷基;取代基可以在烷基的任意位置,可以为苯基、苄氧基、醚基、酯基、磺酰酯基、胺基、炔基、烯基、氰基、氟、氯、溴、碘原子;所述环烷基为C3-C8的环烷基;R2选自氢或烷基,烷基可以为C1-C5的烷基。
所述式V中,溴源优选式V-a(N-溴代丁二酰亚胺,简称NBS)。
所述手性膦配体的构型可以是(R,R)型或者(S,S)型,具体如式III所示:
所述金属路易斯酸具体如式IV所式:
M(OTf)x (式IV)
式III中,Ar选自苯基或取代苯基,所述取代苯基中的邻、间、对位中任意一个或两个位置被下述任意一个基团取代:甲氧基和甲基。
所述式IV中,M代表金属元素,OTf表示三氟甲磺酸根。M(OTf)x具体可以为Sc(OTf)3、Sm(OTf)3、La(OTf)3、Y(OTf)3、Yb(OTf)3、Cu(OTf)2、Zn(OTf)2、Hf(OTf)3或Pr(OTf)3,优选Sc(OTf)3。
上述方法中,式II所示烯烃底物在反应液中的浓度为0.05~1摩尔/升,优选0.07-0.1摩尔/升。
所述式V所示溴源与式II所示烯烃底物的投料摩尔比为1~5∶1,优选1.2∶1。
所述配合物中式III所示手性配体与式IV所示路易斯酸的摩尔比为0.8~1.5∶1,优选1∶1。式III所示手性配体与式IV所示路易斯酸形成的配合物与式II所示烯烃底物的投料摩尔比为0.01~0.2∶1,优选0.02~0.1∶1。
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