[发明专利]含卤光活性恶唑啉酮衍生物及其制备方法

权利要求书

1.式I所示的化合物：

式I中，R选自下述基团中的任意一种：甲基、苯基和取代苯基；所述取代苯基中的邻、间、对位中任意一个或两个位置被下述任意一个基团取代：甲基、硝基、氟原子、氯原子和溴原子；

R¹选自下述基团中的任意一种：氢、烷基、含取代基的烷基和环烷基；所述含取代基的烷基中的取代基在烷基中任意位置取代，所述取代基选自下述任意一种：苯基、苄氧基、醚基、酯基、磺酰酯基、胺基、炔基、烯基、氰基、氟原子、氯原子、溴原子和碘原子；

R²选自氢或烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于：所述R¹中的烷基或含取代基的烷基为C1-C16的直链或支链烷基；所述R¹中的环烷基为C3-C8的环烷基；

所述R²中的烷基为C1-C5的烷基。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：式I中，R为对甲苯基。

4.制备权利要求1-3中任一项所述式I所示化合物的方法，包括下述步骤：在手性膦配体与金属路易斯酸形成的配合物的催化作用下，将式V-a、式V-b、式V-c和式V-d中任一所示溴源和式II所示烯烃底物于有机溶剂中进行溴胺环化反应，反应完毕得到式I所示化合物；

所述式II中R、R¹、R²的定义同式I。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述手性膦配体的构型为R，R构型或者S，S构型；

所述手性膦配体的结构式如式III-a或式III-b所示：

所述式III-b中，Ar选自苯基或取代苯基，所述取代苯基中的邻、间、对位中任意一个或两个位置被下述任意一个基团取代：甲氧基和甲基；

所述金属路易斯酸如式IV所示：

M(OTf)_x  (式IV)

所述式IV中，M代表金属元素，OTf表示三氟甲磺酸根；

所述M(OTf)x具体为Sc(OTf)₃、Sm(OTf)₃、La(OTf)₃、Y(OTf)₃、Yb(OTf)₃、Cu(OTf)₂、Zn(OTf)₂、Hf(OTf)₃或Pr(OTf)₃，优选Sc(OTf)₃。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于：所述式II所示烯烃底物在反应体系中的浓度为0.05～1摩尔/升，优选0.07-0.1摩尔/升；

所述式V-a、式V-b、式V-c、式V-d中任一所示溴源与式II所示烯烃底物的投料摩尔比为1～5∶1，优选1.2∶1；

所述配合物中式III所示手性配体与式IV所示路易斯酸的摩尔比为0.8～1.5∶1，优选1∶1；式III所示手性配体与式IV所示路易斯酸形成的配合物与式II所示烯烃底物的投料摩尔比为0.01～0.2∶1，优选0.02～0.1∶1。

7.根据权利要求4-6中任一项所述的方法，其特征在于：所述有机溶剂选自苯、甲苯、三氯甲烷、二氯乙烷和二氯甲烷中的至少一种，优选体积比为3∶1的甲苯与二氯甲烷的混合溶剂。

8.根据权利要求4-7中任一项所述的方法，其特征在于：所述反应的反应温度为-80℃～25℃，优选-50℃至-30℃；反应时间为18～72小时，优选48～72小时。

9.式VI式VIII中任一所示的化合物：

式VI-VIII中，R、R¹、R²的定义同式I。