[发明专利]用于制备可用作ATR激酶抑制剂的化合物的方法

权利要求书

1.一种用于在合适的肟形成条件下由式3化合物制备式4化合物的方法：

其中

R¹为C_1-6烷基；

R²为C_1-6烷基；

或R¹和R²与它们附接的所述氧原子一起形成具有两个氧原子的任选地取代的5或6元饱和杂环；

R³为氢、C_1-6烷基或具有1-2个选自氧、氮和硫的杂原子的3-6元饱和或部分不饱和的杂环基；其中所述杂环基任选地被1个卤素或C_1-3烷基取代；

J¹为H、卤素、C_1-4烷基或C_1-4烷氧基；

PG为氨基甲酸酯保护基。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法用于制备式I化合物：

其中

R⁴为

J¹为卤素、C_1-4烷基或C_1-4烷氧基；

Q为苯基、吡啶基或N-烷基化吡啶酮；

J²为卤素、CN、苯基、唑基或C_1-6脂族基团，其中最多2个亚甲基单元任选地被O、NR”、C(O)、S、S(O)或S(O)₂置换；所述C_1-6脂族基团任选地被1-3个氟基或CN取代；

q为0、1或2；并且

R³为氢、C_1-6烷基或具有1-2个选自氧、氮和硫的杂原子的3-6元饱和或部分不饱和的杂环基；其中所述杂环基任选地被1个卤素或C_1-3烷基取代。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其还包括在合适的保护条件下保护式2化合物：

以形成所述式3化合物的步骤。

4.根据权利要求3所述的方法，其还包括使式1化合物：

与合适的配体在合适的还原胺化条件下反应以形成式2化合物的步骤。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述合适的配体为胺。

6.根据权利要求4所述的方法，其还包括使式4化合物：

在合适的异唑形成条件下反应以形成式5化合物的步骤：

7.根据权利要求6所述的方法，其还包括使式5化合物在合适的偶合条件下然后在合适的去保护条件下反应以形成式I化合物的步骤。

8.根据权利要求1所述的方法，其包括以下限制条件中的一项或多项：

a)R¹为乙基并且R²为乙基；

b)R³为CH₃或并且

c)J¹为H。

9.根据权利要求2所述的方法，其中R⁴为其中Q为苯基、q为1并且J²为C_1-6脂族基团，其中最多1个亚甲基单元任选地被S(O)₂置换。

10.根据权利要求9所述的方法，J²为-S(O)₂-(C_1-5烷基)。

11.根据权利要求2所述的方法，其中

R¹为乙基；R²为乙基；

R³为CH₃或

PG为Boc或Cbz；

J¹为H；

R⁴为其中Q为苯基；J²为-S(O)₂-CH(CH₃)₂；并且q为1。