[发明专利]具有增加可靠性的高功率半导体电子部件有效
申请号: | 201280049496.0 | 申请日: | 2012-10-05 |
公开(公告)号: | CN103918069A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 拉柯许·K·拉尔;罗伯特·科菲;吴毅锋;普里米特·帕里克;尤瓦扎·多拉;乌梅什·米什拉;斯拉班缇·乔杜里;尼古拉斯·费希滕鲍姆 | 申请(专利权)人: | 特兰斯夫公司 |
主分类号: | H01L21/8238 | 分类号: | H01L21/8238 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 韩峰;孙志湧 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 增加 可靠性 功率 半导体 电子 部件 | ||
1.一种电子部件,包括:
具有第一击穿电压的增强型晶体管,所述增强型晶体管包括第一源极、第一栅极和第一漏极;
具有大于所述第一击穿电压的第二击穿电压的耗尽型晶体管,所述耗尽型晶体管包括第二源极、第二栅极和第二漏极;以及
包括第一端子和第二端子的电阻器,其中,
所述第二端子和所述第二源极电连接到所述第一漏极,并且所述第一端子电连接到所述第一源极。
2.如权利要求1所述的电子部件,其中,所述第二栅极电连接到所述第一源极。
3.如权利要求1所述的电子部件,其中,所述增强型晶体管是低压器件,并且所述耗尽型晶体管是高压器件。
4.如权利要求1所述的电子部件,其中,所述第二击穿电压是所述第一击穿电压的至少3倍。
5.如权利要求1所述的电子部件,其中,所述增强型晶体管或所述耗尽型晶体管是III-N器件。
6.如权利要求1所述的电子部件,其中,所述增强型晶体管是硅基晶体管,并且所述耗尽型晶体管是III-N晶体管。
7.如权利要求1所述的电子部件,所述增强型晶体管具有阈值电压,其中,
所述电阻器的电阻足够小到以至与缺少该电阻器的电子部件相比,将偏置所述电子部件时的相对于所述第一源极的所述第一漏极的电压减小到以使得:相对于所述第一源极的所述第一栅极的电压小于所述增强型晶体管的所述阈值电压,并且相对于所述第一源极的所述第二漏极的电压大于所述第一击穿电压且小于所述第二击穿电压。
8.如权利要求1所述的电子部件,所述增强型晶体管具有阈值电压,其中,
当偏置所述电子部件以使得相对于所述第一源极的所述第一栅极的电压小于所述增强型晶体管的所述阈值电压并且相对于所述第一源极的所述第二漏极的电压大于所述第一击穿电压且小于所述第二击穿电压时,第一关断状态泄漏电流流过所述耗尽型晶体管,并且小于所述第一关断状态泄漏电流的第二关断状态泄漏电流流过所述增强型晶体管;以及
在第一温度,所述电阻器的电阻小于所述第一击穿电压除以在所述第二关断状态泄漏电流和所述第一关断状态泄漏电流之间的差。
9.如权利要求1所述的电子部件,所述增强型晶体管具有阈值电压,其中,
当偏置所述电子部件以使得相对于所述第一源极的所述第一栅极的电压小于所述增强型晶体管的所述阈值电压并且相对于所述第一源极的所述第二漏极的电压大于所述第一击穿电压且小于所述第二击穿电压时,第一关断状态泄漏电流流过所述耗尽型晶体管的所述第二源极,以及小于所述第一关断状态泄漏电流的第二关断状态泄漏电流流过所述增强型晶体管的所述第一漏极;以及
在第一温度,所述电阻器的电阻小于所述第一击穿电压除以在所述第二关断状态泄漏电流和所述第一关断状态泄漏电流之间的差。
10.如权利要求9所述的电子部件,其中,所述第一温度是25℃。
11.如权利要求10所述的电子部件,其中,相对于所述第一源极的所述第一栅极的电压是0V。
12.如权利要求9所述的电子部件,所述电子部件额定操作在第二温度和第三温度之间且包含该第二温度和该第三温度的温度范围,所述第二温度小于所述第一温度并且所述第三温度大于所述第一温度,其中,
在所述温度范围内的全部温度,所述电阻器的电阻小于所述第一击穿电压除以在所述第二关断状态泄漏电流和所述第一关断状态泄漏电流之间的差。
13.如权利要求12所述的电子部件,其中,所述第二温度是-55℃以及所述第三温度是200℃。
14.如权利要求1所述的电子部件,所述增强型晶体管具有第一阈值电压以及所述耗尽型晶体管具有第二阈值电压,其中,
当偏置所述电子部件以使得相对于所述第一源极的所述第一栅极的电压小于所述增强型晶体管的所述阈值电压并且相对于所述第一源极的所述第二漏极的电压大于所述第一击穿电压且小于所述第二击穿电压时,关断状态泄漏电流流过所述耗尽型晶体管的所述第二源极,以及
在第一温度,所述电阻器的电阻足够大到以防止所述关断状态泄漏电流超出临界值。
15.如权利要求14所述的电子部件,其中,所述第一温度是25℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于特兰斯夫公司,未经特兰斯夫公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280049496.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:助听器
- 下一篇:含1,4-苯并二噁烷的水杨醛酰腙衍生物及其制备方法与用途
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造