[发明专利]气化器

说明书

技术领域

本发明涉及气化器，具体而言，主要涉及用于使液体有机金属材料气化的气化器。

背景技术

一直以来，在化合物半导体、ITO膜等的成膜工序中，使用有机金属气相生长法(MOCVD：Metal Organic Chemical Vapor Deposition)。而且，在有机金属气相生长法中，使用通过载体气体使液体有机金属材料鼓泡并成为气体的所谓鼓泡法的气化器是众所周知的(专利文献1、2等)。

然而，在使用鼓泡法的气化器中，存在鼓泡流量、液面水平、鼓泡的气泡直径、液体温度等各种参数的波动导致在气化气体的供给浓度中产生波动的问题。

因此，提案有如下液体材料气化供给系统，其在不使用载体气体的情况下，在气化器内加热原料气体并使其气化，利用对应高温的压力调整式流量控制装置对气化的原料气体本身进行流量控制并供给至反应容器(专利文献3)。通过使用该液体材料气化供给系统来进行有机金属气体的流量控制，能够在不受在鼓泡法中成为问题的鼓泡流量等的影响的情况下控制流量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002－88477号公报；

专利文献2：日本特开2010－284628号公报；

专利文献3：日本特开2009－252760号公报。

发明内容

发明要解决的问题

然而，在上述液体材料气化供给系统中，虽然以受控的定时间歇地对气化器内供给为液体材料的有机金属材料，但供给液体材料之后的气化器内的压力的举动在每次供给液体材料时不同，是不稳定的。

因此，本发明的主要目的在于提供能够使气化器内的压力的举动稳定的气化器。

用于解决问题的方案

为了实现上述目的，本发明所涉及的气化器的特征在于具备：腔，其具备流入口以及流出口；加热装置，其加热收容在该腔内的液体材料；隔壁构造体，其将该腔内的液体材料划分到多个区划；以及液体流通部，其容许利用所述隔壁构造体划分的各区划之间的液体流通，所述隔壁构造体具有格子状、蜂窝状、网孔(mesh)状、或管状的隔壁。

优选地，所述液体流通部为在所述隔壁构造体下端形成的切口部。

优选地，所述隔壁构造体是通过将多片隔壁片交叉状地连结而形成的。

优选地，所述隔壁片包含第一隔壁片和第二隔壁片，所述第一隔壁片具有从上端向下方延伸的第一狭缝，通过在该第一狭缝插入所述第二隔壁片来与该第二隔壁片连结。

优选地，所述隔壁片包含第一隔壁片和第二隔壁片，所述第二隔壁片具有从下端向上方延伸的第二狭缝，通过在该第二狭缝插入所述第一隔壁片来与该第一隔壁片连结。

优选地，所述隔壁片包含第一隔壁片和第二隔壁片，所述第一隔壁片具有从上端向下方延伸的第一狭缝，所述第二隔壁片具有从下端向上方延伸的第二狭缝，通过在所述第一狭缝的下端插入所述第二狭缝来将所述第一片与所述第二片连结。

发明的效果

根据本发明所涉及的气化器，由于设置隔壁构造体，该隔壁构造体将在腔内气化的液体材料划分到多个细分化的区划，故通过使液体材料中的热分布均匀，能够防止因大的对流发生引起的液体材料温度的不均，使气化器内的压力举动一定。

附图说明

图1是示出包含本发明所涉及的气化器的液体材料气化供给系统的一个实施方式的概要构成图。

图2是示出为本发明所涉及的气化器的构成要素的隔壁构造体的组装前的隔壁片的俯视图。

图3是从斜上方看组合了图2的隔壁片的隔壁构造体的立体图。

图4是从底侧看图3的隔壁构造体的立体图。

图5是示出为本发明所涉及的气化器的构成要素的隔壁构造体的其他实施方式的立体图。

图6是示出为本发明所涉及的气化器的构成要素的隔壁构造体的又一其他实施方式的立体图。

图7是示出为本发明所涉及的气化器的构成要素的隔壁构造体的又一其他实施方式的立体图。

图8是示出通过使用本发明实施例的液体材料气化供给系统进行流量控制的情况下的气化器内的压力和气化器外表面的温度的时间变化的图表。

图9是示出通过比较例的液体材料气化供给系统进行流量控制的情况下的气化器内的压力和气化器外表面的温度的时间变化的图表。

图10是概念性地示出比较例的气化器内的热对流的说明图。

具体实施方式

以下参照图1～图10说明用于实施本发明的方式。此外，贯穿所有的图，对同样的构成部分附以相同符号。