[发明专利]防反射膜及偏振片

权利要求书

1.一种防反射膜，其是依次层叠透明基材、第1层、折射率比所述第1层的折射率低的第2层而成的防反射膜，其中，所述第1层是使含有电离放射线固化型材料、季铵盐材料和流平材料的涂膜固化而成的。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述流平材料为氟系流平材料。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，所述流平材料的量在所述电离放射线固化型材料、所述季铵盐材料和所述流平材料的合计100质量份中为0.05～5.0质量份的范围内。

4.根据权利要求1～3任一项所述的防反射膜，其中，对于所述第2层形成前的第1层的表面，使压头的压痕深度为100nm所获得的微小压痕硬度在0.45GPa～1.0GPa的范围内。

5.根据权利要求1～4任一项所述的防反射膜，其满足下述中的至少1个要件：

（1）所述第1层的表面的中心线平均粗糙度Ra在0.001μm～0.010μm的范围内；和

（2）所述硬涂层表面的凹凸的平均间隔Sm在0.15mm～1.00mm的范围内。

6.一种防反射膜的制造方法，其是依次层叠透明基材、第1层、折射率比所述第1层的折射率低的第2层而成的防反射膜的制造方法，其包含下述工序：

在所述透明基材的至少1个主面上涂布含有电离放射线固化型材料、季铵盐材料和流平材料的涂液以形成第1涂膜的涂布工序；和

对所述第1涂膜照射电离放射线、作为所述第1涂膜的固化物获得所述第1层的工序。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，在氧浓度为1体积%以下的气氛下对所述第1涂膜照射所述电离放射线。

8.根据权利要求6或7所述的制造方法，其中，所述电离放射线为紫外线。

9.一种偏振片，其具备权利要求1所述的防反射膜、将所述防反射膜的所述透明基材夹在中间地与所述防反射膜的所述第1层相向的偏光层、以及将所述偏光层夹在中间地与所述防反射膜相向的透明基材。