[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明是关于基板处理装置。

本申请是根据2011年4月25日申请的日本特愿2011-097122号主张优先权，并将其内容援引于此。

背景技术

作为构成显示器装置等显示装置的显示元件，例如有液晶显示元件、有机电致发光(有机EL)元件等。目前，此等显示元件是以对应各画素在基板表面形成被称为薄膜电晶体(Thin Film Transistor：TFT)的主动元件(Active device)渐为主流。

近年来，提出了一种在片状的基板(例如薄膜构件等)上形成显示元件的技术。作为此种技术，例如有一种被称为卷轴对卷轴(roll to roll)方式(以下，简记为「卷轴方式」)的手法广为人知(例如，参照专利文献1)。卷轴方式，是将卷绕在基板供应侧的供应用滚筒的1片片状基板(例如，带状的薄膜构件)送出且一边将送出的基板以基板回收侧的回收用滚筒加以卷取，一边藉由设置于供应用滚筒与回收用滚筒间的处理部(单元)对基板施以所欲加工。

又，在基板送出至被卷取为止的期间，例如一边使用多个搬送滚筒等搬送基板、一边使用多个处理部来形成构成TFT的闸极电极、闸极绝缘膜、半导体膜、源极－汲极电极等，在基板的被处理面上依序形成显示元件的构成要件。

先行技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2006／100868号小册子

发明内容

发明所要解决的课题

然而，上述步骤，有可能需要全长数百公尺的长搬送路径，而例如被要求在工厂等的有限空间内有效率地配置各处理部。

本发明的态样，其目的在于提供能有效率地配置处理部的基板处理装置。

解决课题的技术手段

依据本发明的态样，提供一种基板处理装置，其具备：多个处理部，对形成为带状的基板分别进行处理；第一处理室，收容多个处理部中能执行共通次程序的第一处理部；第二处理室，收容多个处理部中的第二处理部；以及搬送部，将基板分别搬送至第一处理室及第二处理室。

发明效果

根据本发明的态样，能有效率地利用处理部的空间。

附图说明

图1显示本实施形态的基板处理装置的整体构成的图。

图2显示本实施形态的基板处理装置的基板处理部构成的剖面图。

图3显示本实施形态的加热单元的构成的剖面图。

图4显示本实施形态的加热单元的构成的立体图。

图5显示本实施形态的加热装置的构成的立体图。

图6显示本实施形态的配置于处理室的加热装置的配置例的图。

图7显示加热装置的配置例的比较图。

图8显示本实施形态的振动除去装置的构成的侧视图。

图9显示振动除去装置的其他构成的侧视图。

图10显示振动除去装置的其他构成的侧视图。

图11显示振动除去装置的其他构成的侧视图。

图12显示振动除去装置的其他构成的侧视图。

图13显示振动除去装置的其他构成的侧视图。

图14显示本实施形态的处理室彼此间的构成的图。

图15显示本实施形态的流体除去装置的构成的图。

主要元件标号说明：

S  基板

CONT  控制部

EX  曝光装置

R(R1～R30)  导引滚筒(导引部)

3  基板处理部(处理部)

10  处理装置

41  涂布装置

42  显影装置

43  洗净装置

44  镀敷装置

11～13  处理室(第一处理室、第二处理室、第三处理室)

15～19  连接部

20  搬送装置(搬送部)

45   废液回收部(回收管、回收部)

51～53  加热装置

60  筐体

61  基板搬入口(搬入口)

62  基板收容室(收容室)

63  基板搬出口(搬出口)

70  加热部

84  异物移动抑制装置

85  流体移动限制装置

86  调温装置(基板调温部)

91  振动除去装置(调整机构)

92、93  张力消除机构

96  旋转驱动部

100  基板处理装置