[实用新型]一种硅片清洗机及其洗槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，特别涉及一种硅片清洗机及其洗槽。

背景技术

硅片生产环节，通常分为破锭（破方）、滚圆（倒角）抛光、粘接、线锯、清洗五个工序。其中，清洗工序的目的是对线锯完成的半成品硅片进行清洗，该工序具体包括预清洗和深清洗。当预清洗脱胶完成后，取出从托盘上脱离的硅片，并将硅片转送至下一阶段进行深清洗，在这个过程中，要经过一个人工参与的过程，即从预清洗机中的转运车中取出硅片放入洗槽中进行插片。在取出硅片的过程中并不是一片一片的取出，而是一摞一摞的取出，然后放入洗槽。

如图1所示，现有技术的洗槽为不锈钢材质的长方体的箱体01，在箱体01上方设有一个进水管02，箱体01的一个侧边靠下有一个出水管03。工作人员在操作过程中，将预清洗机中的硅片通过小车运输到清洗机水槽处，再将一摞一摞的硅片取出放入洗槽的箱体01中。放置后硅片的一组相对边中的一边接触洗槽的箱体01的槽底，另一边接触箱体01的侧面，硅片与侧面的倾斜角度大约为15°-20°，以便于操作人员对硅片的取放过程。

但是，从上述工作过程可知，倾斜放置后的硅片与洗槽通过侧边分别与箱体01的槽底和箱体01的侧边接触，即接触方式为线接触，由于多个硅片叠放在一起，其之间具有很大的压力，因此，很容易造成碎片和隐裂的现象。

因此，如何提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率。

为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：

优选地，上述的洗槽中，还包括：设置在所述洗槽箱体内的缓冲装置，所述缓冲装置相对于所述洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。

优选地，上述的洗槽中，所述缓冲装置为支撑板。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板的宽度小于硅片的宽度和/或其长度小于硅片的长度。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板包括两个重叠布置的支撑分板，且两个所述支撑分板之间设置有弹性件。

优选地，上述的洗槽中，所述弹性件为弹簧。

优选地，上述的洗槽中，所述支撑板的用于支撑硅片的表面还设置有弹性层。

优选地，上述的洗槽中，所述弹性层为硅胶层。

优选地，上述的洗槽中，所述预设角度为15°-20°。

优选地，上述的洗槽中，所述缓冲装置的一组对边中的一者与所述洗槽箱体的槽底相连，另一者与所述洗槽箱体的侧边相连。

一种硅片清洗机，包括洗槽，其中，所述洗槽为上述任一项所述的洗槽。

从上述的技术方案可以看出，本实用新型提供了一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体，还包括设置在洗槽箱体内的缓冲装置，且缓冲装置相对于洗槽箱体的侧壁倾斜预设角度布置。通过在洗槽箱体内放置缓冲装置，并将硅片放置在缓冲装置上，使硅片的一个表面与缓冲装置接触，一个侧边与洗槽箱体的底面接触，因此，增大了硅片与洗槽的接触面积，从而降低了碎片和隐裂的现象，提高了产品的合格率。

附图说明

图1为现有技术提供的硅片清洗机的洗槽的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的硅片清洗机的洗槽的结构示意图；

图3为图2中A的局部放大图。

具体实施方式

本实用新型核心是提供一种硅片清洗机的洗槽，增大硅片与洗槽的接触面积，以提高产品的合格率。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。

请参考图2-图3，本实用新型公开了一种硅片清洗机的洗槽，包括洗槽箱体1，还包括设置在洗槽箱体1内的缓冲装置2，该缓冲装置2相对于洗槽箱体1的侧壁倾斜预设角度布置。

通过在洗槽箱体1内放置缓冲装置2，并将硅片放置在缓冲装置2上，使硅片的一个表面与缓冲装置2接触，一个侧边与洗槽箱体1的底面接触，因此，增大了硅片与洗槽的接触面积，从而降低了碎片和隐裂的现象，提高了产品的合格率。

具体的实施例中将缓冲装置2设置为支撑板，由于支撑板结构简单，且能实现增大硅片与洗槽的接触面积的目的。由于本实施的核心的是增大硅片与洗槽的接触面积，因此，在实际生产中其他可增大硅片与洗槽的接触面积的结构也在保护范围内。本实施例中提供的支撑板的形状和材质可根据不同的需要进行设定，优选地，缓冲装置的材质为PVC板，且为长方型。