[实用新型]一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅片抛光领域，特别涉及一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构。

背景技术

随着IC制造技术的飞速发展,为了提高IC的集成度,要求硅片的刻线宽度越来越细。相应地,对硅片表面层质量的要求也日益增高,即要求硅片表面高度平整光洁,几何尺寸均匀,有精确的定向,表面层无任何的损伤。然而,从硅单晶锭到单晶硅片需要一系列的机械和化学加工过程,如切、磨、抛等。在硅片切割、研磨、磨削等加工过程中会不可避免地在硅片表面产生微划痕、微裂纹、残余应力、晶格畸变等加工损伤，然而,硅片加工表面层损伤及加工表面层物理化学性质的任何微小变化都会导致器件成为废品。目前，在硅片的打磨过程中，抛光机的中心轮与下定盘是连接固定的，在转动过程中，中心轮就容易发生磨损，碎屑就会掉落到下定盘上，从而导致放置在下定盘上的硅片的表面损伤。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构，结构简单，安装方便，降低硅片因中心轮磨损产生损伤的风险，极大的减少了设备部件的加工成本，并且对硅片生产品质有了进一步的提高。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构，包括中心杆、中心轮和中心轮安装基座，所述的中心杆的下端沿着圆周均匀布置有若干个中心杆安装螺纹孔，所述的中心轮安装基座的上端和下端都沿着圆周均匀布置有若干个基座安装螺纹孔，所述的中心杆的下端通过螺栓穿过中心杆安装螺纹孔和基座安装螺纹孔连接固定有中心轮安装基座，所述的基座安装螺纹孔的下端通过螺栓连接固定有中心轮，所述的中心轮居中布置于下定盘的上方且与下定盘之间留有空隙。

所述的中心杆安装螺纹孔与基座安装螺纹孔的数量与尺寸相同。

所述的中心杆的上端套接有一个高度调整法兰。

所述的中心轮呈圆盘形，其上侧中心布置有一个圆台，所述的圆台的下端布置有向外延伸的圆形定位环，所述的圆形定位环的外沿上沿着圆周均匀开有若干个弧形缺口，所述的弧形缺口与需要抛光的硅片的尺寸相配。

有益效果

本实用新型涉及一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构，采用悬挂式结构，使中心轮与下端的下定盘不接触，中心轮的磨损降低到很低程度，同时降低硅片因中心轮磨损产生损伤的风险，极大的减少了设备部件的加工成本，并且对硅片生产品质有了进一步的提高。

附图说明

图1是本实用新型的结构主视图；

图2是本实用新型的改进前结构示意图；

图3是本实用新型所述的中心轮的结构图。

具体实施方式

下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解，在阅读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

如图1-3所示，本实用新型的实施方式涉及一种硅片抛光的悬挂式中心轮结构，包括中心杆2、中心轮4和中心轮安装基座3，所述的中心杆2的下端沿着圆周均匀布置有4个中心杆安装螺纹孔21，所述的中心轮安装基座3的上端和下端都沿着圆周均匀布置有4个基座安装螺纹孔31，所述的中心杆2的下端通过螺栓穿过中心杆安装螺纹孔21和基座安装螺纹孔31连接固定有中心轮安装基座3，所述的基座安装螺纹孔31的下端通过螺栓连接固定有中心轮4，所述的中心轮4居中布置于下定盘5的上方且与下定盘5之间留有空隙，所述的中心杆安装螺纹孔21与基座安装螺纹孔31的数量与尺寸相同，所述的中心杆2的上端套接有一个高度调整法兰1，所述的中心轮4呈圆盘形，其上侧中心布置有一个圆台41，所述的圆台41的下端布置有向外延伸的圆形定位环42，所述的圆形定位环42的外沿上沿着圆周均匀开有4个弧形缺口43，所述的弧形缺口43与需要抛光的硅片的尺寸相配。

实施例1

将硅片均匀放置在下定盘5的上侧，硅片与弧形缺口43相配合放置，此时，抛光机工作台上方的磨盘往下移动罩住硅片并开始转动，同时，下定盘5也开始匀速转动，磨盘和下定盘5一起对硅片的表面进行打磨处理。