[实用新型]一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备的研发制造，尤其对真空室和镀件转架以及磁控蒸发电极的设置。 

背景技术

在低温等离子体成膜过程中，成膜环境、溅射靶材或蒸发电极电源、镀件转架、人机工艺控制、定期清机维护等等，决定生产过程中成膜质量与效率以及稳定性。本实用新型针对成膜环境的镀膜室、镀件转架的设置提出三瓣壳体组合构造成膜室以及可扩展连续交替镀件转架。以改善和提高成膜质量与成膜产品的质量稳定性与效率。 

发明内容

本实用新型提供一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其包括三瓣壳体镀膜室、可扩展连续交替镀件转架，其特征在于： 

所述三瓣壳体镀膜室由固定瓣(1g)和两活动瓣(2h1、2h2)组成；固定瓣(1g)两轴向边对称铰接两活动瓣(2h1、2h2)的各相邻轴向边，两个活动瓣(2h1、2h2)交替轮回与固定瓣(1g)组合成镀膜室，所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(1g)和(2h1、2h2)其轴向截面为半圆壳体，其轴向两端头为半圆鼎形状，其轴向切面附有基体法兰(11)，基体法兰附有(a)密封圈沟槽；所述固定瓣(1g)附有与扩散泵或分子泵连接的大阀法兰接口(12)及密封沟槽，所述固定瓣(1g)的上端附有磁控或蒸发电极连接棒口(444)，所述三瓣壳体镀膜室的内壁附有钢衣； 

所述可扩展连续交替镀件转架(3)由调速电机驱动轮(30q)、一次公转轮(3-2)、一次自转介轮(3-3)、固定轮(3-1)、一次自转轮(3-4)、二次公转轮 (3-5)、二次自转轮(3-6)、镀件单元转架(3-7)、镀件接挂转杆(3-8)、一次自转转杆(3-9)、可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮(5)、磁控或蒸发电极连接棒(44)组成。 

三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其特征在于所述镀件单元转架(3-7)嵌固于二次公转轮(3-5)之上，之下嵌套一次自转轮(3-4)且附有芯轴一次自转转杆(3-9)；镀件单元转架(3-7)径向任意均布排列3至12个二次自转轮(3-6)并附有芯轴镀件接挂转杆(3-8)；二次自转轮(3-6)由二次公转轮(3-5)驱动； 

所述(3)可扩展连续交替镀件转架通过一次公转轮(3-2)的径向任意均布排列3至12个镀件单元转架(3-7)、其相应配设对3至12个一次自转介轮(3-3)、一次自转轮(3-4)； 

所述磁控或蒸发电极连接棒(44)一端嵌固于固定轮(3-1)，再固定于或活动瓣(2h1、2h2)上，另一端固定于可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮(5)上与固定瓣(1g)上的磁控或蒸发电极连接棒口(444)对接，可多组对3至12个镀件单元转架(3-7)附设。 

本实用新型解决其技术问题是：真空镀膜室、镀件转架可连续交替工作，并镀件转架相对于镀件可自由扩展，节省能耗，提高效率和稳定可靠性。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成，由二瓣壳体组合工作，配套双镀件转架。受“伯力努”流体理论启发，采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室；双镀件转架引用“行星轮系构形”，在轮系的径向处均布排列镀件单元转架。 

本实用新型的有益效果是：真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成，由二瓣壳体组合工作，配套双镀件转架实现可连续交替工作。受“伯力努”流体理论启发， 采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室，实现密闭室体平滑连接消除死角，使真空镀膜室的密闭型腔无湍流渦浪涌，大程度限制气浪冲击，限制真空镀膜室的升压率，节省真空达标时间。双镀件转架引用“行星轮系构形”，在轮系的径向处均布排列镀件单元转架，实现自由镀件转架扩展，实现镀件转架任意调速。 

附图说明

图1是本实用新型三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置装配图 

图2是本实用新型可扩展连续交替镀件转架装配图 

下面结合附图对实用新型进一步说明。 

具体实施方式

如图1所示，三瓣壳体镀膜室为半圆柱鼎形壳体，由(1g)固定瓣的(11)基体法兰两轴向边对称铰接(2h1、2h2)活动瓣的(11)基体法兰各轴向边，两个(2h1、2h2)活动瓣交替轮回与(1g)固定瓣组合成镀膜室，所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(1g)和(2h1、2h2)其轴向截面为半圆壳体，其轴向两端头为半圆鼎形状，其轴向切面附有(11)基体法兰，基体法兰附有(a)密封圈沟槽；所述(1g)固定瓣附有与扩散泵或分子泵(12)大阀法兰接口及密封沟槽，所述(1g)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸发电极连接棒口，所述三瓣壳体镀膜室的内壁附有钢衣；