[实用新型]乙炔脉冲真空渗碳装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及了一种乙炔脉冲真空渗碳装置，属于热处理技术领域。

背景技术

乙炔能获得非常高的碳势，是渗碳工艺中一种非常常用的渗碳剂。现有的采用乙炔进行渗碳的过程通常是在空气中进行的，由于气体渗碳，导致晶界氧化比较严重，对于细孔的工件，细孔内部的渗碳层不够均匀。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种乙炔脉冲真空渗碳装置，使利用该装置完成渗碳的工件的渗碳层更加均匀，没有晶界氧化产生，渗碳时间短，能耗小。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

一种乙炔脉冲真空渗碳装置，包括渗碳炉和乙炔存储罐，所述还包括多个形状、容量相同的腔体，每个腔体与所述乙炔存储罐相连通，所述渗碳炉上、下表面均等间距设有与所述腔体数量相同的开口，每个腔体对应连通一个上表面开口和一个下表面开口，所述每个开口处设有第一电磁阀，所述腔体与乙炔存储罐设有第二电磁阀。

前述的乙炔脉冲真空渗碳装置，其特征在于：所述渗碳炉上还连接有抽真空装置。

前述的乙炔脉冲真空渗碳装置，其特征在于：至少一个所述腔体上安装有压力计。

前述的乙炔脉冲真空渗碳装置，其特征在于：所述腔体的数量为6个。

本实用新型的有益效果是：通过间隙式的乙炔渗碳的方式，能对形状较为复杂的工件进行渗碳，细孔的工件内部进行渗碳，也能得到较均匀的渗碳层，并且工件表面清洁光亮，真空脉冲渗碳渗速较快，时间较短，金相组织均匀，而晶界氧化几乎为零，成品外观良好、耗能少、无环境污染、又可以保证高品质。

附图说明

图1是本发明乙炔脉冲真空渗碳装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合说明书附图，对本发明作进一步的说明。

如图1所示，一种乙炔脉冲真空渗碳装置，包括渗碳炉1和乙炔存储罐2，所述还包括多个形状、容量相同的腔体3，每个腔体3与所述乙炔存储罐2相连通，所述渗碳炉1上、下表面均等间距设有与所述腔体3数量相同的开口，每个腔体3对应连通一个上表面开口和一个下表面开口，所述每个开口处设有第一电磁阀4，所述腔体3与乙炔存储罐2设有第二电磁阀7，所述渗碳炉1上还连接有抽真空装置5，至少一个所述腔体3上安装有压力计8，所述腔体3的数量为6个。

在利用该装置完成渗碳工艺时，关闭渗碳炉1上、下表面开口处的第一电磁阀4，打开第二电磁阀7，通过乙炔存储罐2对腔体3内同时充乙炔气体，通过压力计8读取腔体3内的压力，当压力值满足渗碳需要的压力时，关闭第二电磁阀7，利用抽真空装置5将渗碳炉1内抽真空，然后打开渗碳炉1上表面开口处的第一电磁阀4，使乙炔气体从渗碳炉1上部进入，对产品6进行渗碳，一定时间后，关闭渗碳炉1上表面开口处的第一电磁阀4，利用抽真空装置5将渗碳炉1内抽真空，打开第二电磁阀7，通过乙炔存储罐2对腔体3内同时充乙炔气体，通过压力计8读取腔体3内的压力，当压力值满足渗碳需要的压力时，关闭第二电磁阀7，然后打开渗碳炉1下表面开口处的第一电磁阀4，使乙炔气体从渗碳炉1下部进入，对产品6进行渗碳，一定时间后，关闭渗碳炉1下表面开口处的第一电磁阀4，利用抽真空装置5将渗碳炉1内抽真空，循环上述过程，实现对产品6进行间隙式真空渗碳。

综上所述，本实用新型提供的乙炔脉冲真空渗碳装置，使利用该装置完成渗碳的工件的渗碳层更加均匀，没有晶界氧化产生，渗碳时间短，能耗小。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界。