[实用新型]真空设备的气体扩散装置

权利要求书

1.一种真空设备的气体扩散装置，能够通入控温流体，该气体扩散装置包含一个具有至少一个上下贯穿其顶面与底面的进气孔的门板、至少一个安装固定于该门板的底面且与门板相配合界定出一个与该进气孔连通的气体分配空间的气体分配盘，及一个罩盖该气体分配盘地安装于该门板底面的气体扩散盘，该气体分配盘具有多个间隔自该气体分配空间往下延伸贯穿，且能够供该气体分配空间内的气体排出的分配孔，该气体扩散盘与该门板相配合界定出一个与所述分配孔连通的气体扩散空间，并具有多个间隔自该气体扩散空间往下延伸贯穿，且能够供该气体扩散空间内的气体排出的扩散孔，其特征在于：该气体扩散盘内部还穿设有一个延伸分布于所述扩散孔间并能够供所述控温流体流通的流体通道。

2.根据权利要求1所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该气体扩散盘具有一个以其顶侧周缘往上靠抵固定于该门板底面的环状的环框、一个安装固定于该环框底缘且与该环框和门板相配合界定出该气体扩散空间的扩散板，及一个嵌装固定于该扩散板底面的盖板，所述扩散孔是上下贯穿地间隔穿设于该扩散板，且该扩散板底面凹设有一个延伸分布于所述扩散孔间的沟槽，该盖板是沿该沟槽长度方向延伸地嵌装于该沟槽中，而与该扩散板相配合于该沟槽界定出该流体通道。

3.根据权利要求2所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该沟槽由下往上依序具有一个大口径部，及一个口径小于该大口径部口径的小口径部，该盖板是嵌装固定于该大口径部中。

4.根据权利要求2或3所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该流体通道具有外露于该扩散板的周面，且分别与其两相反端连通的一个注入口与一个排出口。

5.根据权利要求2或3所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该流体通道两相反端分别具有一个外露于该扩散板周面的注入口，并具有一个介于其两相反端间且外露于扩散板周面的排出口。

6.根据权利要求2所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该流体通道是呈前后向往复弯延伸分布状。

7.根据权利要求1所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：该气体扩散盘具有一个以其顶侧周缘往上靠抵固定于该门板底面的环状的环框、一个安装固定于该环框底缘且与该环框和门板相配合界定出该气体扩散空间的扩散板，及多个安装固定于该扩散板的连通管，所述扩散孔是上下贯穿地间隔穿设于该扩散板，该扩散板内部穿设有多个间隔延伸分布于所述扩散孔间的穿孔，所述连通管是分别连通于所述穿孔间，而与该扩散板相配合于所述穿孔处界定出该流体通道，该流体通道具有一个构成于其中一个连通管的注入口，与一个构成于另外一个连通管的排出口。

8.根据权利要求7所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：所述穿孔是分别延伸贯穿该扩散板的周面，所述连通管是分别设置于该扩散板周侧。

9.根据权利要求7所述的真空设备的气体扩散装置，其特征在于：所述连通管是将所述穿孔依序串接连通地设置于所述穿孔间。