[发明专利]感光型聚酰亚胺及负型光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种感光型聚酰亚胺，如式(I)所示：

其中X₁和X₃为相同或不相同的具有四个共价键的有机官能基团；

X₂和X₄为相同或不相同的具有双共价键的有机官能基团，且其中X₂为

以及的组合；或是

以及的组合；

其中Y₁选自下列官能基之一：

-O-、-CO-、-S-、-SO₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-(CH₂)_n1-、-O(CH₂)_n2O-、-COO(CH₂)_n3OCO-、

其中n1、n2、n3为1至10的整数；

其中R₁为OH或COOH；

R₂选自下列官能基之一：

以及

其中R为H或CH₃，p为1至20的整数，q为1至20的整数；且

式(I)中的m和n为重复单元的数目，其中m为10至1000的整数，n为10至1000的整数。

2.如权利要求1所述的感光型聚酰亚胺，其中X₁和X₃分别选自下列官能基之一：

3.如权利要求1所述的感光型聚酰亚胺，其中X₄与X₂不相同，且X₄选自下列官能基之一：

其中Y₁和Y₂为相同或不相同的双共价键的有机官能基团，且Y₁和Y₂分别选自下列官能基之一：

-O-、-CO-、-S-、-SO₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-(CH₂)_n1-、-O(CH₂)_n2O-、-COO(CH₂)_n3OCO-、

其中n1、n2、n3为1至10的整数；R₃为H、甲基、乙基或苯基，且其中r、s、t为1至30的整数。

4.如权利要求3所述的感光型聚酰亚胺，其中以式(I)中的全部重复单元的摩尔数为基准，含有X₂的重复单元所占的摩尔比为20mol％至85mol％，且含有X₄的重复单元所占的摩尔比为15mol％至80mol％。

5.如权利要求1所述的感光型聚酰亚胺，其中以式(I)中的全部重复单元的摩尔数为基准，含有的重复单元所占的摩尔比为5mol％至85mol％，且含有或是含有的重复单元所占的摩尔比为15mol％至95mol％。