[发明专利]用于PECVD设备的硅片自动上下料装置有效
申请号: | 201210579113.2 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103035555A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 王燕清;周昕 | 申请(专利权)人: | 无锡先导自动化设备股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 pecvd 设备 硅片 自动 上下 装置 | ||
1.一种用于PECVD设备的硅片自动上下料装置,其特征是:在机架上转动安装有机械手(10),在机械手(10)上安装有吸盘(11),在机械手(10)外侧的机架上安装有第一硅片盒输送机构(1a)、第一升降平台机构(2a)、导向机构(3)、第一出片搬运机构(4a)、第一储料机构(5a)、第一运输机构(6a)、第一小车定位机构(7a)、第一石墨舟定位机构(8a)与第一搬运小车(9a),在机架上内侧位置安装有第二硅片盒输送机构(1b)、第二升降平台机构(2b)、出片输送机构(12)、第二出片搬运机构(4b)、第二储料机构(5b)、第二运输机构(6b)、第二小车定位机构(7b)、第二石墨舟定位机构(8b)与第二搬运小车(9b);所述第一运输机构(6a)安装于第一出片搬运机构(4a)的前方,第二运输机构(6b)安装于出片输送机构(12)的前方,机械手(10)安装于第一运输机构(6a)与第二运输机构(6b)之间的机架上。
2.如权利要求1所述的用于PECVD设备的硅片自动上下料装置,其特征是:所述第一硅片盒输送机构(1a)与第二硅片盒输送机构(1b)结构相同,它们包括第一电机(1.1)、托板(1.2)、同步带(1.3)、第一同步带轮(1.4)、第二同步带轮(1.5)、转动轴(1.6)、第三同步带轮(1.7)与第四同步带轮(1.8),在第一电机(1.1)的输出端连接有第四同步带轮(1.8),转动轴(1.6)的两端均固定有第一同步带轮(1.4),两第一同步带轮(1.4)之间的转动轴(1.6)上固定有第三同步带轮(1.7),第四同步带轮(1.8)通过同步带(1.3)连接第三同步带轮(1.7),同步带(1.3)绕过第一同步带轮(1.4)、托板(1.2)与第二同步带轮(1.5)。
3.如权利要求1所述的用于PECVD设备的硅片自动上下料装置,其特征是:所述第一升降平台机构(2a)与第二升降平台机构(2b)结构相同,它们包括安装支座(2.10)、竖向升降组件和水平输送组件,水平输送组件通过第一连接板(2.7)固定于竖向升降平台组件上,竖向升降组件通过安装支座(2.10)固定于机架上;
所述竖向升降组件包括第二电机(2.1),第二电机(2.1)安装在安装支座(2.10)上,第二电机(2.1)的输出端通过联轴器与第一丝杠(2.5)的一端连接,所述第一丝杠(2.5)的两端通过轴承座转动安装在安装支座(2.10)上,安装支座(2.10)上平行安装有第一线轨(2.2),在第一线轨(2.2)内滑动连接有第一滑块(2.3),第一丝杠(2.5)上安装有第一螺母(2.4),第一滑块(2.3)及第一螺母(2.4)固定在第一连接板(2.7)上;
所述水平输送组件包括第三电机(2.11),第三电机(2.11)的输出端固定同步带轮,转轴(2.13)的两端固定两个第五同步带轮(2.12),第三电机(2.11)的输出端的同步带轮通过第二同步带(2.14)与转轴(2.13)上的第十同步带轮(2.16)连接,第二同步带(2.14)绕过第六同步带轮(2.15)与第五同步带轮(2.12),转轴(2.13)上方设置有两个挡块(2.9),所述第一连接板(2.7)的上端固定有第一气缸(2.6),第一气缸(2.6)的活塞杆端部安装有压紧头。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造