[发明专利]一种衬底支承座

说明书

技术领域

本发明涉及化学气相沉积的技术领域，尤其是对化学气相沉积系统中加热装置的技术改进。

背景技术

现有的化学气相沉积(以下简称CVD)设备中，结合如图1、图2所示，衬底支承座10包括相对设置的衬底支撑盘20和加热装置30，所述衬底支撑盘20用于支撑待处理的衬底(图中未示出)；所述加热装置30包括设有加热面32的底盘31以及多根两端连接有接线柱的电热丝33，所述加热面32面向所述衬底支撑盘20，加热装置30上的多根电热丝33是盘绕在底盘1底盘31上的，因此需要在加热装置30的中心O处，或加热面32上某处A1、A2、A3、A4设置电热丝33接线柱O、A1、A2、A3、A4。由于接线柱O、A1、A2、A3、A4并不发热，但会占据加热装置30一定的加热面32面积，导致位于所述加热装置30上方的衬底支撑盘20的受热不均匀。特别是位于中心的接线柱O，由于位于加热装置30上方的衬底支撑盘20相对所述加热装置30器旋转时，所述中心点固定对应所述衬底支撑盘20的中心点，必然造成衬底支撑盘20的中心点温度低于衬底支撑盘20其它区域的温度，直接影响衬底受热的均匀性。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种化学气相沉积的衬底支承座，通过改变电热丝在加热装置上的布设方式，保证底盘的加热面均匀布设有电热丝，避免局部温度过低，导致底盘加热不均匀的缺陷。

这种衬底支承座，包括相对设置的衬底支撑盘和加热装置，所述衬底支撑盘用于支撑待处理衬底；所述加热装置包括设有加热面的底盘以及多根两端连接有接线柱的电热丝，所述加热面面向所述衬底支撑盘，所述电热丝布设于所述底盘的加热面上；所述接线柱布设于所述加热面周围。

优选地，所述衬底支撑盘相对所述加热装置旋转。

优选地，所述加热面包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域；所述电热丝的布设密度从所述第一区域向所述第二区域逐渐增大。

优选地，所述电热丝在所述加热面上呈纺锤体状排布。

优选地，所述加热面包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域；所述电热丝在所述加热面上平行排布。

优选地，所述电热丝包括穿过所述加热面第一区域上方布设的中心加热组，以及在所述中心加热组两侧且布设于所述第二区域上方的的侧部加热组；所述中心加热组电热丝的布设密度小于所述侧部加热组。

优选地，还包括辅助加热组，所述辅助加热组的电热丝沿所述加热面的第二区域延伸设置。

优选地，还包括辅助加热组，所述辅助加热组在所述中心加热组上方且布设于所述加热面第二区域上。

有益效果：本发明的电热丝的接线柱设置在非加热面区域，既不占据加热面的加热面积，也避免局部温度过低，导致底盘加热不均匀的缺陷。并且，电热丝在加热面的排布方式可以有多种，能根据不同形状的底盘及衬底支撑盘来调整排布状态。

附图说明

图1是现有衬底支承座的结构示意图。

图2是现有加热装置中电热丝的布设示意图。

图3是本发明实施例1的加热装置中电热丝布设示意图。

图4是本发明实施例1的加热装置中辅助加热组布设示意图。

图5是本发明实施例2的加热装置中电热丝布设示意图。

图6是本发明实施例3的加热装置中电热丝布设示意图。

图7是本发明实施例4的加热装置中电热丝布设示意图。

图8是本发明实施例5的加热装置中电热丝布设示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施例作详细说明。

本发明是通过改变CVD加热装置上电热丝的布设方式，一方面减少接线柱在底盘加热面的占有面积，另一方面改变现有的环形电热丝布设方式，实现对底盘较为均匀的加热，进而实现加热装置对衬底的均匀加热。

实施例1

如图1所示，本实施例的化学气相沉积系统包括腔体50，在腔体50的顶部设有喷淋头40，腔体50底部设有衬底支承座10。其中，衬底支承座10包括相对设置的衬底支撑盘20和加热装置30，所述衬底支撑盘20用于支撑待处理衬底。其中，结合图3所示，所述加热装置30包括设有加热面32的底盘31以及多根两端连接有接线柱34的电热丝33，所述加热面32面向所述衬底支撑盘20。所述电热丝33布设于所述底盘31的加热面32上；所述接线柱34布设于所述加热面32周围。由于接线柱34本身是不发热的，若其安设于在加热面32上会占据加热面积，使得局部受热不均。