[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含该添加剂的抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种由下式1表示的抗蚀剂添加剂：

式1

其中，R₁和R₂各自独立地为氢原子或C1-C8烷基，

R₃选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30环烷二基、C3-C30环烯二基、C2-C30杂环烷二基和C3-C30杂环烷二基，其中至少一个氢原子被选自C1-C10烷基、C1-C20卤代烷基和C3-C30环烷基中的一个基团取代或未被取代，

R₄是选自C1-C20卤代烷基、有机硅基团和C3-C20烃基中的疏水性基团，

R₅是选自中的酸不稳定基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基中，或者R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C3-C30饱和或不饱和的烃环或C2-C30杂环基，p是0-3的整数，q是0-10的整数，

l、m和n分别是主链中重复单元的数目，其中l+m+n=1，0<l/(l+m+n)<0.99，0≤m/(l+m+n)<0.99和0<n/(l+m+n)≤0.20，以及

o是0或1的整数，其中如果o为0，则R₄是有机硅基团，而如果o为1，则R₄是C1-C20卤代烷基或C3-C20烃基。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中R₃选自C1-C10亚烷基、C2-C10亚烯基、C1-C10杂亚烷基、C2-C10杂亚烯基、C3-C18环烷二基、C3-C18环烯二基、C2-C18杂环烷二基和C3-C18杂环烷二基，其中至少一个氢原子被C1-C10烷基或C1-C10卤代烷基取代或未被取代。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中R₄选自C1-C10氟烷基、甲硅烷基、C1-C10烷基甲硅烷基、C3-C10直链或支链烷基、C3-C14单环环烷基、C8-C18二环环烷基、C10-C30三环环烷基和C10-C30四环环烷基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中R₄选自叔丁基、三氟甲基、三甲基甲硅烷基、二(三氟甲基)异丙基、五氟乙基和七氟丙基。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中R₅选自其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C10烷基、C3-C14单环环烷基、C8-C20二环环烷基、C10-C30三环环烷基、C10-C30四环环烷基、(C1-C5烷基)环烷基、羟烷基、C1-C10烷氧基、(C1-C5烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰烷基、羧基、(C1-C5烷基)羧基和(C3-C10环烷基)羧基中，或者R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C6-C18饱和或不饱和的烃环或C5-C18杂环基，p是0-3的整数，q是0-5的整数。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中R₅选自叔丁基、三甲基甲硅烷基、羟基-2-乙基、1-甲氧基丙基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基丙基、1-乙氧基-1-甲基乙基、1-甲氧基-1-乙基、1-乙氧基-1-乙基、叔丁氧基-2-乙基、1-异丁氧基-1-乙基和由下式2a-2k表示的基团：

其中R'、R”和R”’各自独立地为氢原子或C1-C10烷基，a和e各自独立地为0-15的整数，b为0-11的整数，c和d各自独立地为0-9的整数，f为0-7的整数，g和i各自独立地为0-6的整数，h为0-4的整数，0≤c+d≤17和0≤c+f≤15。