[发明专利]触控电极结构及其制造工艺

说明书

技术领域

本发明涉及触控技术，特别是涉及一种触控电极结构及其制造工艺。

背景技术

传统的触控电极结构制造工艺中，最主要的步骤包括电极结构的形成和线路层的形成，在这两个步骤中，分别需要用到用于定义电极图形的掩膜和用于定义线路层连接区域的掩膜。在传统的制造工艺中，掩膜在完成以上制程步骤之后，一般都需要额外的步骤去除。

另一方面，为了使得触控电极结构在应用于触控显示装置时具有良好的视觉效果，在形成触控感测电极结构之后，触控电极结构上通常需要增加额外的光学层，以调节触控装置的显示效果。

因此传统的触控电极结构制造工艺不但流程繁琐，而且在显示效果的调整方面需要付出额外的成本。

发明内容

基于此，有必要提供一种触控电极结构的制造工艺，其具有较少的工艺步骤且较好的视觉效果。

此外，还提供一种触控电极结构。

一种触控电极结构的制造工艺，包括步骤：

S1：形成一电极层于一基板上；

S2：形成一第一防蚀刻光学层于该电极层上；

S3：蚀刻未被该第一防蚀刻光学层遮挡的该电极层，经蚀刻后的该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区，且位于该非蚀刻区的电极层包含：

至少两个以上的沿第一方向排列的第一电极块，相邻的该些第一电极块通过一第一导线电性连接；

至少两个以上的沿第二方向排列的第二电极块，该些第二电极块分别设置于该第一导线两侧；

S4：形成一第二防蚀刻光学层于该第一防蚀刻光学层和该基板上，且对应于各第二电极块上的该第二防蚀刻光学层形成有镂空区域；

S5：蚀刻该镂空区域处的该第一防蚀刻光学层，形成贯穿孔贯穿该第一防蚀刻光学层；

S6：形成一线路层，该线路层位于该第二防蚀刻光学层上，且通过该镂空区域与该贯穿孔电性连接相邻的第二电极块。

一种触控电极结构，包括：

一基板；

一电极层，设置于该基板上，且该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区，其中该非蚀刻区的电极层包含：至少两个以上的沿第一方向排列的第一电极块，相邻的该些第一电极块通过第一导线电性连接；至少两个以上的沿第二方向排列的第二电极块，所述第二电极块分别设置于该第一导线两侧；

一第一防蚀刻光学层，设置于该非蚀刻区的电极层上，且该第一防蚀刻光学层对应于该些第二电极块的位置形成有贯穿孔；

一第二防蚀刻光学层，设置于该第一防蚀刻光学层与该基板上，且该第二防蚀刻光学层对应于该贯穿孔的位置形成有镂空区域；

一线路层，设置于该第二防蚀刻光学层上，且该线路层通过该镂空区域及该贯穿孔电性连接相邻的第二电极块。

通过调节第一防蚀刻光学层和第二防蚀刻层的折射率，可减轻蚀刻后蚀刻区和非蚀刻区存在的外观差异。此外，相比于传统的制造工艺，本实施例的工艺流程中没有涉及去除用于定义电极层的电极图形的掩膜以及去除用于定义线路层连接区域的掩摸的步骤，因此工艺步骤会更少，制程的时间也会更短，可以提高该工艺的效率。

附图说明

图1为第一实施例的触控电极结构的制造工艺流程图；

图2a~图2f为图1所示工艺流程图中各个步骤所对应的触控电极结构俯视图；图2a′~图2f′分别为图2a~图2e沿A-A’方向的剖视图；

图2g为第一实施例的触控电极结构蚀刻区与非蚀刻区的电极层的层级结构图；

图3a为第二实施例的触控电极结构的俯视图；图3a′为图3a沿A-A’方向的剖视图；

图4为另一实施例的触控电极结构的制造工艺流程图；

图5a～图5e为图4所示工艺流程图中各个步骤所对应的触控电极结构俯视图；图5a′~图5f′分别为图5a~图5e沿A-A’方向的剖视图。

具体实施方式

如图1所绘示，为一实施例的触控电极结构的制造工艺流程图。该制造工艺流程包括以下步骤。