[发明专利]一种基板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板的制作方法。

背景技术

光刻胶涂布是光刻工艺的必须环节，为了提高涂布时光刻胶的利用率，目前，LCD行业在涂布工艺中以狭缝式涂覆为主流，在提高光刻胶利用率，和提高生产效率的同时，也存在较难解决的问题，即存在涂布不良(Uncoating)的问题。

目前，构成薄膜场效应晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)的阵列基板及彩膜基板的膜层一般由5层或更多层组成，其中通过构图工艺形成图案时，都必须经过光刻胶涂布这一步骤。然而，越在后面的薄膜层上形成图案时，涂布光刻胶所需跨越的段差就越大，涂布过程中发生涂布不良的几率就增大，此外，玻璃基板边缘表面状态差等都使得在涂布过程中发生涂布不良的可能性增大。

例如，如图1所示，当涂布光刻胶30的涂布装置的喷嘴60从透明基板10边缘开始涂布时，在经过段差区域时，会导致光刻胶30涂布不良的发生。

发明内容

本发明的实施例提供一种基板的制作方法，可避免或减少光刻胶涂布时涂布不良的发生率，进而提高量产产品良率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供了一种基板的制作方法，包括：在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；其中，在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：在透明基板上制作第一薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，所述第一薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜外的任一层；所述第一边缘与光刻胶涂布方向垂直，所述第一辅助图案沿所述光刻胶涂布方向的横截面的至少一侧边为阶梯状。

可选的，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：在透明基板上制作至少三层导电薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；所述第一薄膜为所述至少三层导电薄膜中除最后一层导电薄膜外的任一层。

进一步地，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案还包括：在透明基板上制作第二薄膜，并通过构图工艺在所述至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第二辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，所述第二导电薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜和所述第一薄膜外的任一层薄膜；所述第二辅助图案横截面呈矩形状。

进一步地，所述第一辅助图案位于所述第二辅助图案之上。

可选的，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案还包括：在透明基板上制作半导体薄膜，并通过构图工艺在所述至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第三辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，所述第三辅助图案横截面呈矩形状，且所述第三辅助图案位于所述第一辅助图案之下。

基于上述各种可能的阵列基板的制作方法，进一步可选的，所述至少三层导电薄膜包括：源漏金属薄膜、栅金属薄膜、像素电极薄膜。

进一步地，所述在透明基板上制作第一薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案包括：所述在透明基板上制作源漏金属薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成源漏极图案。

可选的，所述在透明基板上制作至少两层薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括：在透明基板上制作至少四层树脂薄膜，并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案；所述第一薄膜为所述至少四层树脂薄膜中除最后一层树脂薄膜外的任一层。

进一步地，所述第一树脂薄膜为最先制作形成的树脂薄膜。

基于上述各种可能的基板，进一步地，所述至少一个第一边缘为两个第一边缘。

进一步地，所述第一辅助图案的横截面为对称形状。

进一步地，所述第一辅助图案包括第一部分、第二部分和第三部分，所述第一部分的厚度高于所述第二部分或第三部分的厚度，且所述第二部分和第三部分分别位于所述第一部分的左右两侧，在光刻胶涂布方向上，第一部分的长度为0.2mm-0.5mm，第二部分的长度为0.2mm-0.5mm，第三部分的长度为0.2mm-0.5mm。