[发明专利]与大豆抗疫霉根腐病候选基因RpsWD15-2共分离的分子标记及其应用

说明书

技术领域

本发明属于农业生物技术工程和农作物抗病遗传育种领域，具体地说，涉及一种与大豆抗疫霉根腐病候选基因RpsWD15-2共分离的分子标记及其应用。 

背景技术

由大豆疫霉（Phytophthora sojae Kaμfmann & Gerdemann）引起的大豆疫霉根腐病是危害大豆生产的主要病害之一。近年来，该病害在大豆主产区黑龙江省危害日益突出，危害大豆面积达15×10⁴公顷。该病害可在大豆的任何生育阶段造成危害，一般田块减产10-30%，严重地块可达60-90%，甚至造成绝产，对大豆生产造成严重威胁。目前，大豆疫霉根腐病已经成为威胁我国大豆生产的常见病害，所以对该病害的防治刻不容缓。 

实践证明，培育和种植抗病品种是最为安全、经济和有效的措施。为此，许多学者在筛选抗性资源及抗病基因定位方面做了大量的研究。研究表明，大豆对疫霉根腐病的抗性分为质量性状抗性（小种抗性）和数量性状抗性。质量性状抗性由显性基因控制，具有完全抗性。迄今，国外已在大豆基因组9个位点上鉴定了15个抗大豆疫霉根腐病基因（Rps），即Rps1a，Rps1b，Rps1c，Rps1d，Rps1k，Rps2，Rps3a，Rps3b，Rps3c，Rps4，Rps5，Rps6，Rps 7，Rps8和theRps gene in cv.Waseshiroge，分别位于大豆基因组第3，16，13，18，18，18，3，13和3号染色体上（MLG N，J，F，G，G，G，N，F和N）（Sugimoto等，2012）。大豆疫霉根腐病在我国发生的历史较短，抗病育种工作也刚刚起步。目前，我国只鉴定了4个抗病基因RpsYB30，RpsYD25，RpsZS18，RpsSN10分别 位于大豆基因组第19，3，2和13号染色体上（MLG L，N，D1b和F）（范爱颖等，2009，孙石等，2011，姚海燕等，2010，于安亮等，2010，朱振东等，2007）。 

我国大豆疫霉具有群体结构复杂，适应范围广和毒力变化快等特点，容易产生新的毒力型小种和克服品种抗性。一般认为大豆疫霉根腐病基因的使用寿命为10-15年，但是新的抗病基因被克服的速度正在加快，如Rps8被鉴定后不到3年，就已发现了能够克服其抗性的新的毒力型的大豆疫霉菌株。大量研究表明国外已鉴定的15个抗病基因中（除the Rps gene in cv.Waseshiroge外），除Rps1c和Rps1k外，都不能有效抵抗我国病区的大豆疫霉种群。因此，有必要大力挖掘和利用新的抗性资源并不断地进行抗病基因的累加，培育抗性持久的大豆品种。 

为挖掘新的大豆抗性资源，大多数学者借助SSR分子标记(http://soybase.org)进行抗病基因定位和分子标记辅助选择育种。该类标记具有高信息量、可靠性强、简便和快速等优点，得到广泛的应用。此外利用已公布的大豆基因组序列（http://www.Phytozome.net）开发相应的分子标记，可以对基因进行精细定位，获得基因紧密连锁的分子标记。 

大豆品种皖豆15是安徽省潘村湖农场农科所用蒙庆13经辐射后系统选育而成的，于1996年通过安徽省品质审定。该品种对大豆病毒病和霜霉病具有高抗性（李俊山2007）。前期研究结果表明，该品种对不同毒力型的两个大豆疫霉菌株PsMC1和PsMC2均有较强的抗性（朱振东等，2001）。陈晓玲等（2008）和夏长剑等（2011）再次报道皖豆15对大豆疫霉菌株具有广谱抗性，推测其可能含有新的抗病基因。 

发明内容

本发明的目的是提供一种与大豆抗疫霉根腐病候选基因 RpsWD15-2共分离的分子标记及其应用。 

为了实现本发明目的，本发明的一种与大豆抗疫霉根腐病候选基因RpsWD15-2共分离的分子标记，其中，所述候选基因RpsWD15-2位于大豆第17号染色体上，且位于标记Sattwd15-24/25和Sattwd15-47之间，与这两个标记的遗传距离分别为0.5cM和0.8cM。 

所述分子标记为Sattwd15-32，含重复基序(AAC)6，且用于扩增分子标记Sattwd15-32的特异性PCR引物对为： 

上游引物F：5′-ATCCCTTATTCCCTTCAT-3′和 

下游引物R：5′-CATAGACCTCCTTCCAAA-3′。 

分子标记Sattwd15-32与候选基因RpsWD15-2的遗传距离为0cM。