[发明专利]利用位置敏感型检测器检测背散射辐射的密度分布测量

权利要求书

1.一种密度分布测量设备，包括：

至少一个位置敏感型伽马射线检测器，所述位置敏感型伽马射线检测器被构造成紧邻过程容器定位，

其中，所述位置敏感型伽马射线检测器被构造成获得背散射伽马射线计数分布，并根据所述背散射伽马射线计数分布确定所述过程容器中容纳的流体的密度分布。

2.根据权利要求1所述的密度分布测量设备，还包括：

至少一个伽马射线源，所述至少一个伽马射线源被构造成将伽马射线发射到所述流体中。

3.根据权利要求1所述的密度分布测量设备，其中，所述位置敏感型伽马射线检测器还包括电离检测器。

4.根据权利要求3所述的密度分布测量设备，其中，所述电离检测器填充有电绝缘材料。

5.根据权利要求3所述的密度分布测量设备，其中，所述电离检测器被构造成作为位置敏感型比例计数器操作。

6.根据权利要求3所述的密度分布测量设备，其中，所述位置敏感型伽马射线检测器被构造成采用电荷分配读数。

7.根据权利要求3所述的密度分布测量设备，其中，所述电离检测器还包括：

电阻元件；

第一输出接触件，所述第一输出接触件连接到所述电阻元件的第一端；和

第二输出接触件，所述第二输出接触件连接到所述电阻元件的第二端，

其中，所述第一输出接触件和所述第二输出接触件被构造成分别输出第一输出信号和第二输出信号。

8.根据权利要求7所述的密度分布设备，还包括：

检测器电子模块，所述检测器电子模块被构造成根据第一输出信号和第二输出信号的比较确定背散射伽马射线的检测位置，

其中，所述第一输出信号从所述第一接触件输出，而所述第二输出信号从所述第二接触件输出。

9.根据权利要求8所述的密度分布设备，其中，所述电子模块还被构造成根据下述公式确定所述检测位置：

x=LVR(R/ρ+1)-VLR/ρVL+VR.]]>

10.根据权利要求8所述的密度分布设备，其中，所述检测器电子模块还被构造成通过计算所述检测位置处的背散射伽马射线计数分布的斜率来测量所述容器中的一位置处的流体密度。

11.一种用于测量过程容器中的流体的密度分布的方法，所述方法包括以下步骤：

将伽马射线发射到所述流体中；

使用紧邻所述容器设置的至少一个位置敏感型伽马射线检测器获得背散射伽马射线计数分布；和

根据所述背散射伽马射线计数分布确定所述过程容器中容纳的流体的密度分布，

其中，所述位置敏感型伽马射线检测器包括电离检测器，所述电离检测器包括：

电阻元件；

连接到所述电阻元件的第一端的第一输出接触件；和

连接到所述电阻元件的第二端的第二输出接触件，

其中，所述输出接触件被构造成分别输出第一输出信号和第二输出信号。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述获得背散射伽马射线计数分布的步骤还包括：

根据第一输出信号和第二输出信号的比较确定背散射伽马射线的检测位置，

其中，所述第一输出信号从所述第一输出接触件输出，而所述第二输出信号从所述第二输出接触件输出。