[发明专利]大功率COB封装LED结构及其晶圆级制造工艺无效
申请号: | 201210462847.2 | 申请日: | 2012-11-16 |
公开(公告)号: | CN102931322A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 李睿 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/64;H01L33/62;H01L33/50 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 张汉钦 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 大功率 cob 封装 led 结构 及其 晶圆级 制造 工艺 | ||
1.一种大功率COB封装LED结构,其特征在于:包括位于底层的子基板(9)、形成于所述的子基板(9)上的布线电极与互联线路、与所述的布线电极相对应的芯片电极、位于所述的芯片电极上方的p型GaN层(3)、有源区(4)、n型GaN层(5)、以及覆盖于所述的n型GaN层(5)上方的荧光粉层(12),其中,所述的布线电极与芯片电极键合在一起。
2.根据权利要求1所述的大功率COB封装LED结构,其特征在于:所述的布线电极包括子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8),所述的子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8)通过互联线路实现串和/或并联,所述的芯片电极包括芯片p型金属电极(1)、芯片n型金属电极(2),所述的子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8)与所述的芯片p型金属电极(1)、芯片n型金属电极(2)相对应键合后分别形成键合后p型电极区域(10)、键合后n型电极区域(11)。
3.根据权利要求1所述的大功率COB封装LED结构,其特征在于:所述的荧光粉层(12)构成保形涂层结构。
4.一种大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:包括依次进行的如下步骤:
a)在蓝宝石基板(6)的外延片上依次沉积p型GaN层(3)、有源区(4)、n型GaN层(5),进行芯片分割后,在每个芯片单元上制备芯片电极;
b)在子基板(9)上蒸镀形成布线电极与互联线路,所述的布线电极与芯片电极的位置和图形一一对应;
c)通过电极金属键合将蓝宝石晶圆与子基板(9)面对面结合在一起,使得蓝宝石基板(6)上每个芯片电极与子基板(9)上布线电极对应的区域键合;
d)去除蓝宝石基板(6),以使芯片转移至子基板(9);
e)在子基板晶圆表面涂覆感光荧光粉溶剂;
f)去除芯片以外区域的荧光粉溶剂形成最终的荧光粉层(12)。
5.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:所述的布线电极包括子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8),所述的子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8)通过互联线路实现串和/或并联,所述的芯片电极包括芯片p型金属电极(1)、芯片n型金属电极(2),所述的子基板p型金属电极区域(7)、子基板n型金属电极区域(8)与所述的芯片p型金属电极(1)、芯片n型金属电极(2)相对应键合后分别形成键合后p型电极区域(10)、键合后n型电极区域(11)。
6.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:所述的荧光粉层(12)构成保形涂层结构。
7.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:所述的子基板(9)由导热性好的非导电材料制成。
8.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:在所述的步骤d)中,通过化学剥离或激光剥离的方法去除蓝宝石基板(6)。
9.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:在所述的步骤e)中,在子基板晶圆表面通过旋涂的方式涂覆感光荧光粉溶剂。
10.根据权利要求4所述的大功率COB封装LED结构的晶圆级制造工艺,其特征在于:在所述的步骤f)中,通过光刻制程去除芯片以外区域的荧光粉溶剂。
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