[发明专利]发光显示背板、显示装置和像素界定层的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种发光显示背板、显示装置和像素界定层的制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)和高分子发光二极管(Polymer Light-emitting Diode，PLED)，因其具有自发光、快速响应、宽视角和可制作在柔性衬底上等独特特点，预计今后几年以OLED、PLED为基础的显示器将成为显示领域的主流。

OLED(或PLED)显示背板包括基板、ITO(Indium Tin Oxide，铟锡氧化物)阳极、发光层和阴极等，其发光原理为：电压作用下，空穴与电子在发光层复合掉到较低的能带上，放出能量与能隙相同的光子，其波长(发光颜色)取决于发光层的能隙大小。

发光层的制作通常采用打印技术，将液态的发光材料铺满特定的像素区域，然而现有高分辨率产品的像素尺寸一般为30μm×180μm，打印形成的液滴直径大于30μm，与像素的尺寸处于同一量级，因此，为保证打印后的液滴能顺利、平整的铺满像素区域内，同时避免液滴流到相邻像素，目前倾向采用双层膜结构形成的像素界定层(Photo Define Layer，PDL)，底层膜采用构图工艺在像素区域宽开口，上层膜采用构图工艺在像素区域窄开口，但是该方案不可避免要增加掩膜版使用数量，增加曝光工序，导致制造成本上升，不利于大规模生产。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种发光显示背板、显示装置和像素界定层的制备方法，可保证打印形成的发光材料液滴可以平铺于像素区域中，避免液滴流到相邻像素区。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种发光显示背板，包括：基板和设置在所述基板上的像素界定层，所述像素界定层包括：

自下而上依次设置的第一感光性树脂层、透明的第一界定层和透明的第二界定层；

在每一像素的对应区域，所述第一感光性树脂层、第一界定层和第二界定层均设置有开口，且所述第一界定层的开口小于所述第二界定层及所述第一感光性树脂层的开口，以形成下宽上窄的发光材料填充域。

优选地，所述第二界定层由疏水性材料形成。

优选地，所述第二界定层为硅氮化物薄膜。

优选地，所述第一界定层由亲水性材料形成。

优选地，所述第一界定层为硅氧化物薄膜。

本发明还提供一种显示装置，包括：所述的任一发光显示背板。

另一方面，本发明还提供一种发光显示背板的像素界定层的制备方法，所述发光显示背板，包括：基板和设置在所述基板上的像素界定层，所述方法包括：

依次形成第一感光性树脂层、第一界定层、第二界定层和第二感光性树脂层，所述第一界定层和所述第二界定层均透明；

进行曝光，使每一像素对应区域的所述第二感光性树脂层及其下方的所述第一感光性树脂层均感光；

去除每一像素对应区域感光的所述第二感光性树脂层，暴露所述第一界定层；

进行刻蚀，使暴露出的所述第一界定层及下层的所述第二界定层在每一像素的对应区域形成开口，其中，进行刻蚀时，所述第二界定层的刻蚀速率小于所述第一界定层的刻蚀速率，以使所述第二界定层的开口小于所述第一界定层的开口。

进一步地，所述方法还包括：去除每一像素对应区域感光的所述第一感光性树脂层。

优选地，所述第二界定层由疏水性材料形成。

优选地，所述第二界定层为硅氮化物薄膜。

优选地，所述第一界定层由亲水性材料形成。

优选地，所述第一界定层为硅氧化物薄膜。

可选地，采用干法刻蚀对暴露出的所述第一界定层及下层的所述第二界定层进行刻蚀。

可选地，采用湿法刻蚀对暴露出的所述第一界定层及下层的所述第二界定层进行刻蚀，且所使用的刻蚀液对硅氮化物的刻蚀速率比对硅氧化物的刻蚀速率小。

本发明提供一种发光显示背板、显示装置和像素界定层的制备方法，先依次形成第一感光性树脂层、第一界定层、第二界定层和第二感光性树脂层；再增加光刻时的曝光量，使每一像素对应区域的第一、第二感光性树脂层均感光；然后去除第二感光性树脂层，并利用第一、第二界定层材料的不同刻蚀速率，将每一像素对应区域的像素界定层刻蚀为下宽上窄倒梯形的结构。这种结构可以保证打印时，发光材料的液滴可以平铺于像素界定层的像素区域中，避免液滴飞溅或流到相邻像素区，而且只需一次光刻工艺，降低了掩膜版的使用数量，从而降低了制造成本。

附图说明