[发明专利]基底处理装置和方法

权利要求书

1.一种基底处理装置，其包括：

支承基底的基底支承构件；

喷嘴臂，其具有把光致抗蚀剂液排放到上述基底上的多个光致抗蚀剂液喷嘴；以及

等待口，安装在上述喷嘴臂中的上述多个喷嘴在该等待口中等待执行各个处理过程，该等待口设置在上述基底支承构件的侧面部分；

其特征在于，上述等待口包括：

具有敞开顶部的壳体，该壳体为容纳上述多个喷嘴提供空间；以及

有机溶剂供应构件，与容纳在上述壳体中的上述多个光致抗蚀剂液喷嘴一一对应，该有机溶剂供应构件把有机溶剂供应到从上述相应的光致抗蚀剂液喷嘴选出来的光致抗蚀剂液喷嘴的前端。

2.如权利要求1所述的基底处理装置，其特征在于，上述温度控制构件包括：

温度控制流体排放管，其与上述喷嘴臂的主体的内壁和上述化学品液管之间的空间连通；

温度控制流体供应管，其把温度控制流体供应到上述主体的内壁和上述化学品液管之间的空间中；以及

温度控制流体排放管道，其连接在上述温度控制流体排放管上。

3.如权利要求1所述的基底处理装置，其特征在于，

上述多个喷嘴包括排放光致抗蚀剂液的光致抗蚀剂液喷嘴，

且上述化学品液管包括把光致抗蚀剂液供应给上述光致抗蚀剂液喷嘴的光致抗蚀剂液管。

4.如权利要求3所述的基底处理装置，其特征在于，

上述多个喷嘴还包括有机溶剂喷嘴，该有机溶剂喷嘴排放用于执行预湿润工序的有机溶剂；

且上述化学品液管还包括把有机溶剂供应给上述有机溶剂喷嘴的有机溶剂管。

5.如权利要求4所述的基底处理装置，其特征在于，该基底处理装置还包括：

把有机溶剂源连接在所述有机溶剂管上的有机溶剂供应管道；以及

设置在上述有机溶剂供应管道中的抽吸构件，该抽吸构件向所述有机溶剂喷嘴提供负压。

6.如权利要求1所述的基底处理装置，其特征在于，上述多个喷嘴包括：

排放光致抗蚀剂液的光致抗蚀剂液喷嘴；以及

排放用来执行预湿润工序的有机溶剂的有机溶剂喷嘴。

7.如权利要求3所述的基底处理装置，其特征在于，

上述壳体具有下凹形状的喷嘴容纳空间，所有的上述多个光致抗蚀剂液喷嘴都容纳在这个空间中；

且上述有机溶剂供应构件具有直接和独立地把有机溶剂供应到上述各光致抗蚀剂液喷嘴的前端的有机溶剂供应通道。

8.如权利要求7所述的基底处理装置，其特征在于，

上述壳体具有多个下凹形状的喷嘴容纳空间，上述多个光致抗蚀剂液喷嘴分别容纳在这些空间中；

且上述有机溶剂供应构件具有独立地把有机溶剂供应到上述各喷嘴容纳空间中的多个有机溶剂供应通道。

9.如权利要求8所述的基底处理装置，其特征在于，上述壳体有排放储存在上述喷嘴容纳空间中的有机溶剂的排放管道。

10.如权利要求6所述的基底处理装置，其特征在于，

上述基底处理装置还包括安装在上述喷嘴臂中、并用于排放用于执行预湿润工序的有机溶剂的有机溶剂喷嘴；

上述壳体具有多个下凹形状的喷嘴容纳空间，上述多个光致抗蚀剂液喷嘴和有机溶剂喷嘴分别容纳在这些空间中；

且上述有机溶剂供应构件具有独立地把有机溶剂供应到上述各个容纳了多个光致抗蚀剂液喷嘴的喷嘴容纳空间中的多个有机溶剂供应通道。

11.如权利要求6所述的基底处理装置，其特征在于，该基底处理装置还包括设置在上述等待口一侧的储存口，该储存口为储存安装在上述喷嘴臂中的喷嘴提供空间。

12.如权利要求11所述的基底处理装置，其特征在于，

上述喷嘴臂设有多根；

并且上述等待口和储存口也设置了多个，使一个口与一根喷嘴臂相对应。

13.如权利要求11所述的基底处理装置，其特征在于，上述储存口包括：

具有敞开的顶部的壳体，这个壳体为容纳上述喷嘴提供了下凹形状的喷嘴容纳空间；以及

把有机溶剂供应到上述喷嘴容纳空间中的有机溶剂供应构件。