[发明专利]配向膜、彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及制造方法

权利要求书

1.一种配向膜，包括：配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，其特征在于，所述配向膜周边部分具有镂空结构。

2.根据权利要求1所述的配向膜，其特征在于，所述配向膜周边部分包括多个环形结构，所述镂空结构为相邻所述环形结构之间的间隔。

3.根据权利要求2所述的配向膜，其特征在于，所述环形结构之间间隔的宽度大于0.05mm且小于0.3mm。

4.根据权利要求3所述的配向膜，其特征在于，与所述配向膜中间部分相连接的配向膜周边部分的宽度大于或等于0.1mm。

5.一种彩膜基板，其特征在于，包括：彩膜基板结构和形成于所述彩膜基板结构之上的彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜采用上述权利要求1至4任一所述的配向膜。

6.一种阵列基板，其特征在于，包括：阵列基板结构和形成于所述阵列基板结构之上的阵列基板配向膜，所述阵列基板配向膜采用上述权利要求1至4任一所述的配向膜。

7.一种液晶显示装置，包括：彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板和所述阵列基板之间填充有液晶层，所述彩膜基板和所述阵列基板之间还形成有封框胶，其特征在于，

所述彩膜基板采用如上述权利要求5所述的彩膜基板，和/或所述阵列基板采用如上述权利要求6所述的阵列基板。

8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，所述封框胶的内侧边缘与显示区域边缘的距离大于或等于0.1mm。

9.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

形成彩膜基板结构；

在所述彩膜基板结构上形成彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜包括配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，所述配向膜周边部分具有镂空结构。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板结构上形成彩膜基板配向膜包括：

在所述彩膜基板结构上形成彩膜配向膜液态材料；

将干涉板放置于所述彩膜基板结构上，所述干涉板包括基底和设置于所述基底上的间隔探针，所述间隔探针与所述彩膜基板结构接触并位于所述周边区域中，所述间隔探针用于使所述配向膜周边部分具有镂空结构；

对所述彩膜配向膜液态材料进行加热处理，形成所述彩膜基板配向膜；

将所述干涉板和所述彩膜基板结构分离。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述间隔探针为环形探针。

12.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意组合。

13.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述间隔探针的表面具有疏水性。

14.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

形成阵列基板结构；

在所述阵列基板结构上形成阵列基板配向膜，所述阵列基板配向膜包括配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，所述配向膜周边部分具有镂空结构。

15.根据权利要求14所述的制造方法，其特征在于，在所述阵列基板结构上形成阵列基板配向膜包括：

在所述阵列基板结构上形成阵列配向膜液态材料；

将干涉板放置于所述阵列基板结构上，所述干涉板包括基底和设置于所述基底上的间隔探针，所述间隔探针与所述阵列基板结构接触并与所述周边区域的位置对应，所述间隔探针用于使所述配向膜周边部分具有镂空结构；

对所述阵列配向膜液态材料进行加热处理，形成所述阵列基板配向膜；

将所述干涉板和所述阵列基板结构分离。

16.根据权利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述间隔探针为环形探针。

17.根据权利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意组合。