[发明专利]彩膜基板及其制造方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括：

基板;

位于所述基板上的呈阵列排布的色阻，所述呈阵列排布的色阻包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻；

其特征在于，所述成阵列排布的色阻还包括合成色阻，所述合成色阻由第一色阻部分和第二色阻部分叠加形成，所述第一色阻部分和第二色阻部分分别是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中任意两种色阻。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括位于所述阵列排布的色阻之间的黑矩阵。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述合成色阻的厚度与所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻的厚度相同。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻具有第一厚度，所述第一色阻部分具有第二厚度，所述第二色阻部分具有第三厚度。

5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。

6.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。

7.一种平板显示装置，其特征在于，包括如权利要求1所述的彩膜基板。

8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为液晶显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。

9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为电子纸显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的电子墨水。

10.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为等离子显示器或者场发射显示器。

11.一种彩膜基板的制造方法，包括：

提供基板；

在所述基板上涂覆第一色阻层；

通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第一色阻层，形成第一色阻和合成色阻的第一部分，所述第一色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第一部分具有第二厚度；

在所述第一色阻和合成色阻的第一部分上涂覆第二色阻层；

通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第二色阻层，形成第二色阻和合成色阻的第二部分，所述第二色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第二部分具有第三厚度；

所述第一色阻或者第二色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的任意一种色阻，所述第一色阻不同于所述第二色阻。

12.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，还包括：

在所述第一色阻、第二色阻、合成色阻的第二部分上涂覆第三色阻层；

通过曝光、显影、刻蚀，图案化所述第三色阻层，形成具有第一厚度的第三色阻；

所述第三色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中除去第一色阻和第二色阻后的剩下的那种色阻。

13.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度之和等于所述第一厚度。

14.如权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。

15.如权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。

16.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，还包括通过光刻工艺形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻两两之间的黑矩阵。