[发明专利]光学拾取装置及其光学元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学拾取装置，以及适于根据预定标准将信息记录到光盘和/或从光盘再现信息的光学拾取装置的光学元件。具体地，本发明涉及一种光学元件和一种光学拾取装置，其中通过在基材上形成底部涂层和功能薄膜来配置光学元件，光学拾取装置上安装有光学元件。

背景技术

存在在记录密度、保护层厚度等方面不同的各种光盘标准，比如CD（光盘，Compact Disc）、DVD（数字多功能光盘，Digital Versatile Disc）和BD（蓝光光盘，Blu-ray Disc）。安装诸如物镜或准直透镜的光学元件安装在其上的光学拾取装置，用于采用激光束照射光盘的信息记录层，并因此将信息记录到光盘或从光盘再现信息。

存在一种情况，在该情况下，当光学拾取装置执行信息记录或信息再现时，在光学拾取装置的光学表面上产生的不需要的反射光或散射光与信号光产生干涉，并因此恶化待记录或待再现信号。因此，在许多情况下，在光学元件的光学表面上设置功能薄膜，比如用于防止灰尘粘附的防反射涂层或抗静电薄膜。

当组装光学拾取装置时，采用溶剂消除粘附到光学元件的表面的灰尘或指纹。因此，要求功能薄膜（比如，防反射涂层）具有抗磨损性、抗化学性和到基材的粘附性。日本专利临时公布No.HEI 6-273601A（此后称作专利文件1）公开了一种技术，在该技术中，由氧化硅作为主要成分制成的具有预定薄膜厚度的薄膜用作防反射涂层的底部涂层。日本专利临时公布No.2006-228285A（此后称作专利文件2）公开了一种技术，在该技术中，交替层叠以氧化硅作为主要成分并具有不同折射率的薄膜来提高耐光性，并且层叠薄膜用作防反射涂层的底部涂层。

发明内容

从抗磨损性和抗化学性角度看，增加底部涂层的薄膜厚度是有效的。然而，存在问题：如果增加了底部涂层的薄膜厚度，那么薄膜形成之后会发生薄膜升高。

专利文件1和2中公开的底部涂层旨在解决这种问题。然而，如果我们试图获得显著的优点，需要300nm或更多的薄膜厚度。在这种情况下，如果在树脂基材上形成具有这种薄膜厚度的底部涂层，那么会导致关于抗环境性的显著恶化（比如，在高温条件下，发生破裂或分离）。

本发明的优点在于：它提供了一种能够具有抗磨损性、抗化学性（抗溶剂性）和抗环境性的光学元件，和一种光学元件安装在其上的光学拾取装置。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件。光学元件包括基材、底部涂层和功能薄膜，基材由树脂合成物形成，底部涂层由三个具有相同主成分的薄膜层形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂层的上表面。在该配置中，底部涂层的第一层和第三层都是不引入氧气时形成的薄膜，第二层是引入氧气时形成的薄膜。底部涂层的薄膜厚度处于160nm到270nm的范围内，并且组成底部涂层的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

因为，根据上述配置，底部涂层的薄膜厚度可以减少，变得可能的是，提高抗环境性同时保持抗磨损性和抗化学性（抗溶剂性）。

根据本发明的另一个方面，提供一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件。光学元件包括基材、底部涂层和功能薄膜，基材由树脂合成物形成，底部涂层由三个具有相同主成分的薄膜层形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂层的上表面。在该配置中，底部涂层的第一层和第三层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层是引入氧气时形成的薄膜。底部涂层的薄膜厚度处于120nm到270nm的范围内，第二层的薄膜的薄膜厚度处于90nm到240nm的范围内。

采用该配置，可以提供具有抗磨损性、抗化学性（抗溶剂性）和抗环境性的光学元件。

在至少一个方面中，第一和第三层的薄膜厚度可以彼此不同。

根据本发明的另一个方面，提供一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件。光学元件包括基材、底部涂层和功能薄膜，基材由树脂合成物形成，底部涂层由五个具有相同主成分的薄膜层形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂层的上表面。在该配置中，底部涂层的第一层、第三层和第五层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层和第四层都是引入氧气时形成的薄膜。底部涂层的薄膜厚度处于150nm到275nm的范围内，组成底部涂层的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

采用该配置，可以提供具有抗磨损性、抗化学性（抗溶剂性）和抗环境性的光学元件。