[发明专利]光学拾取装置及其光学元件

权利要求书

1.一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，包括：

基材，所述基材由树脂合成物形成；

底部涂层，所述底部涂层由三个具有相同主成分的薄膜层形成，所述底部涂层形成在所述基材的上表面；和

功能薄膜，所述功能薄膜形成在所述底部涂层的上表面；

其中：

所述底部涂层的第一层和第三层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层是引入氧气时形成的薄膜；并且

所述底部涂层的薄膜厚度处于160nm到270nm的范围内，组成所述底部涂层的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

2.一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，包括：

基材，所述基材由树脂合成物形成；

底部涂层，所述底部涂层由三个具有相同主成分的薄膜层形成，所述底部涂层形成在所述基材的上表面；和

功能薄膜，所述功能薄膜形成在所述底部涂层的上表面；

其中：

底部涂层的第一层和第三层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层是引入氧气时形成的薄膜；并且

所述底部涂层的薄膜厚度处于120nm到270nm的范围内，所述第二层的薄膜的薄膜厚度处于90nm到240nm的范围内。

3.根据权利要求2所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述第一层和所述第三层的薄膜厚度彼此不同。

4.一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，包括：

基材，所述基材由树脂合成物形成；

底部涂层，所述底部涂层由五个具有相同主成分的薄膜层形成，所述底部涂层形成在所述基材的上表面；和

功能薄膜，所述功能薄膜形成在所述底部涂层的上表面；

其中：

所述底部涂层的第一层、第三层和第五层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层和第四层都是引入氧气时形成的薄膜；并且

所述底部涂层的薄膜厚度处于150nm到275nm的范围内，组成所述底部涂层的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

5.一种用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，包括：

基材，所述基材由树脂合成物形成；

底部涂层，所述底部涂层由五个具有相同主成分的薄膜层形成，所述底部涂层形成在所述基材的上表面；和

功能薄膜，所述功能薄膜形成在所述底部涂层的上表面；

其中：

所述底部涂层的第一层、第三层和第五层都是不引入氧气形成的薄膜，第二层和第四层都是引入氧气时形成的薄膜；并且

所述底部涂层的薄膜厚度处于125nm到290nm的范围内，所述第二层和所述第四层的薄膜的平均薄膜厚度处于30nm到120nm的范围内。

6.根据权利要求5所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述第一层、第三层和第五层的薄膜厚度彼此不同。

7.根据权利要求5或6所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述第二层和第四层的薄膜的薄膜厚度彼此不同。

8.根据权利要求1-7中的任一项所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，引入氧气时形成的所述薄膜是通过以0.7×10^-2Pa到3.0×10^-2Pa的流率引入氧气而形成的薄膜。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述底部涂层包括以金属氧化物作为相同主成分的薄膜。

10.根据权利要求9所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述金属氧化物是氧化硅。

11.根据权利要求1-10中的任一项所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述基材由环烯树脂制成。

12.根据权利要求1-11中的任一项所述的用于将具有特殊波长的激光束会聚到光盘的记录层的光学拾取的光学元件，其中，所述功能薄膜是防反射涂层。