[发明专利]用于显示装置的阵列基板及其制造方法

权利要求书

1.一种用于显示装置的阵列基板，所述用于显示装置的阵列基板包括：

基板；

栅线，所述栅线沿第一方向形成在所述基板上；

数据线，所述数据线沿第二方向形成在所述基板的上方，其中所述数据线与所述栅线彼此交叉以限定像素区域；

薄膜晶体管，所述薄膜晶体管形成在所述像素区域中，并且具有漏极、与所述栅线连接的栅极以及与所述数据线连接的源极；

像素电极，所述像素电极形成在所述像素区域中，并且与所述漏极连接；

第一辅助栅极图案，所述第一辅助栅极图案形成在所述栅线的上方并且与所述栅线接触；以及

第一辅助数据图案，所述第一辅助数据图案形成在所述数据线的上方并且与所述数据线接触。

2.根据权利要求1所述的用于显示装置的阵列基板，进一步包括：

栅绝缘层，所述栅绝缘层覆盖所述栅线和所述栅极，并且在所述数据线的下方；

钝化层，所述钝化层形成在所述数据线和所述栅绝缘层上；

第一接触孔，所述第一接触孔形成在所述钝化层和所述栅绝缘层中，并且沿所述第一方向暴露所述栅线；以及

第二接触孔，所述第二接触孔形成在所述钝化层中，并且沿所述第二方向暴露所述数据线，

其中所述第一辅助栅极图案形成在所述第一接触孔中；并且所述第一辅助数据图案形成在所述第二接触孔中。

3.根据权利要求2所述的用于显示装置的阵列基板，进一步包括漏极接触图案，其中所述钝化层进一步形成在所述漏极上并包括漏极接触孔，所述漏极接触图案形成在所述漏极接触孔中并且接触所述漏极，而所述像素电极覆盖并接触所述漏极接触图案。

4.根据权利要求1所述的用于显示装置的阵列基板，进一步包括：

第二辅助栅极图案，所述第二辅助栅极图案形成在所述第一辅助栅极图案上，以覆盖、接触和保护所述第一辅助栅极图案；以及

第二辅助数据图案，所述第二辅助数据图案形成在所述第一辅助数据图案上，以覆盖、接触和保护所述第一辅助数据图案。

5.根据权利要求4所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述第二辅助栅极图案和所述第二辅助数据图案是由与所述像素电极相同的材料形成的。

6.根据权利要求1或2所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述第一辅助栅极图案和所述第一辅助数据图案是通过覆镀法形成的。

7.根据权利要求3所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述漏极接触图案、所述第一辅助栅极图案和所述第一辅助数据图案是通过覆镀法形成的。

8.根据权利要求1或2所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述第一辅助栅极图案和所述第一辅助数据图案由铜、铬或镍形成。

9.根据权利要求3所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述漏极接触图案、所述第一辅助栅极图案和所述第一辅助数据图案由铜、铬或镍形成。

10.根据权利要求1、2或3所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述第一辅助数据图案是沿所述数据线一体形成的。

11.根据权利要求3所述的用于显示装置的阵列基板，进一步包括：

公共线，所述公共线形成在相邻的栅线之间，并且与所述栅线平行，其中所述栅绝缘层进一步覆盖所述公共线；

电容电极，所述电容电极形成在所述公共线的上方，其中彼此交叠的所述电容电极和所述公共线与在所述电容电极和所述公共线之间的所述栅绝缘层一起形成存储电容器；以及

电容接触图案，

其中所述钝化层进一步形成在所述电容电极上，并且所述钝化层包括电容接触孔，所述电容接触图案形成在所述电容接触孔中并且接触所述电容电极，并且所述像素电极覆盖并接触所述电容接触图案。

12.根据权利要求11所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述漏极接触图案、所述第一辅助栅极图案、所述第一辅助数据图案和所述电容接触图案是通过覆镀法形成的。

13.根据权利要求11所述的用于显示装置的阵列基板，其中所述漏极接触图案、所述第一辅助栅极图案、所述第一辅助数据图案和所述电容接触图案由铜、铬或镍形成。