[发明专利]图像传感器感光单元及其制造方法

权利要求书

1.一种图像传感器感光单元，其特征在于，包括第一覆盖层、第二覆盖层和第一与第二覆盖层之间的介质层，所述介质层中进一步包括器件层和绝缘层，所述器件层和所述第一覆盖层贴合，在所述器件层中设置有至少一光电二极管，所述第二覆盖层为光入射层。

2.根据权利要求1所述的图像传感器感光单元，其特征在于，所述介质层进一步包括支撑层，所述绝缘层设置在支撑层和器件层之间，所述第二覆盖层与所述支撑层贴合。

3.根据权利要求2所述的图像传感器感光单元，其特征在于，所述支撑层的厚度小于5μm。

4.根据权利要求1所述的图像传感器感光单元，其特征在于，所述第一覆盖层的材料为反射增强材料；所述第二覆盖层为增透膜，或所述第二覆盖层的材料为单面透射材料，光从介质层外到介质层内的透射率大于从介质层内到介质层外的透射率。

5.根据权利要求1或4所述的图像传感器感光单元，其特征在于，所述第一覆盖层和第二覆盖层的厚度范围均为1nm至10nm。

6.根据权利要求1所述的图像传感器感光单元，其特征在于，在所述第二覆盖层的表面进一步设置有光聚焦模块。

7.一种图像传感器感光单元的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底，所述衬底包括支撑层，支撑层表面的绝缘层以及绝缘层表面的器件层；

在器件层中制作至少一光电二极管；

减薄支撑层；

在所述衬底的器件层表面形成第一覆盖层，并在与之相对的表面形成第二覆盖层。

8.根据权利要求7所述的图像传感器感光单元的制造方法，其特征在于，所述减薄支撑层的步骤中，进一步是将支撑层减薄至一厚度。

9.根据权利要求8所述的图像传感器感光单元的制造方法，其特征在于，所述支撑层减薄之后的厚度小于5μm。

10.根据权利要求7所述的图像传感器感光单元的制造方法，其特征在于，进一步包括一在所述第二覆盖层的表面形成光聚焦模块的步骤。