[发明专利]一种传感器的制造方法

权利要求书

1.一种传感器的制造方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上通过一次构图工艺形成偏压线的图形；

通过一次构图工艺形成位于偏压线之上、与偏压线导电接触的透明电极的图形，位于透明电极之上的光电二极管的图形，位于光电二极管之上的接收电极的图形、与接收电极连接的源极的图形和与源极相对而置形成沟道的漏极的图形，以及，与漏极连接的数据线的图形和位于源极和漏极之上的欧姆层的图形；

通过一次构图工艺形成位于欧姆层和沟道之上的有源层的图形、位于有源层之上并覆盖基板的第一钝化层，以及位于第一钝化层之上、沟道上方的栅极的图形和与栅极连接的栅线的图形。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在形成栅极的图形和栅线的图形之后，进一步包括：

通过一次构图工艺形成覆盖基板的第二钝化层的图形，所述第二钝化层具有信号引导区过孔。

3.如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺形成透明电极的图形、光电二极管的图形、接收电极的图形、源极的图形、漏极的图形、数据线的图形和欧姆层的图形，具体包括：

依次沉积透明电极金属、光电二极管材料层、数据线金属和欧姆材料层，并在欧姆材料层之上涂覆光刻胶；

采用具有全透光区、半透光区和不透光区的掩模板对基板进行曝光，其中，半透光区对应形成沟道的区域；不透光区对应形成源极、漏极、数据线和接收电极的区域；

对基板的完全曝光区进行显影、刻蚀；

对基板的半曝光区进行灰化、刻蚀和光刻胶剥离，形成沟道的图形。

4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺形成有源层的图形、第一钝化层、栅极的图形和栅线的图形，具体包括：

依次沉积有源材料层、第一钝化层和栅金属，形成有源层图形；

对栅金属进行刻蚀，形成栅极的图形和栅线的图形。

5.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述源极、漏极、数据线和接收电极的材质相同。